[实用新型]一种晶体硅太阳能电池结构有效
申请号: | 201721533206.6 | 申请日: | 2017-11-16 |
公开(公告)号: | CN207441709U | 公开(公告)日: | 2018-06-01 |
发明(设计)人: | 赵科雄;贾苗苗;许庆丰 | 申请(专利权)人: | 隆基乐叶光伏科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216;H01L31/0224 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 徐文权 |
地址: | 710018 陕西省西安市西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 减反射膜 掺杂 晶体硅太阳能电池 本实用新型 隧穿氧化层 背面电极 微晶硅层 正面电极 电接触 微晶硅 穿透 光电转换效率 电池结构 晶体硅片 背面 发电 | ||
1.一种晶体硅太阳能电池结构,其特征在于,自上而下依次包括正面电极(8)、第一减反射膜(1)、第一掺杂多/微晶硅层(2)、第一隧穿氧化层(3)、晶体硅片(4)、第二隧穿氧化层(5)、第二掺杂多/微晶硅层(6)、第二减反射膜(7)和背面电极(9);正面电极(8)穿透第一减反射膜(1)与第一掺杂多/微晶硅层(2)形成电接触;背面电极(9)穿透第二减反射膜(7)与第二掺杂多/微晶硅层(6)形成电接触。
2.根据权利要求1所述的一种晶体硅太阳能电池结构,其特征在于,晶体硅片(4)为P型或N型的单晶硅片或多晶硅片。
3.根据权利要求1所述的一种晶体硅太阳能电池结构,其特征在于,两个隧穿氧化层均为氧化硅、氧化铝、氧化钛、氮氧化硅的一种或多种叠层,厚度为1~3nm。
4.根据权利要求1所述的一种晶体硅太阳能电池结构,其特征在于,两个减反射膜厚度均为50~100nm,减反射膜可为氮化硅、氧化硅、氮氧化硅、氧化钛、氧化铝薄膜的一种或多种叠层。
5.根据权利要求1所述的一种晶体硅太阳能电池结构,其特征在于,正反面电极为细栅线状,正反面电极为银电极、铝电极、镍电极、铜电极、合金电极或金属复合电极。
6.根据权利要求1所述的一种晶体硅太阳能电池结构,其特征在于,两个掺杂多/微晶硅层的厚度均为10~300nm。
7.根据权利要求1所述的一种晶体硅太阳能电池结构,其特征在于,第一掺杂多/微晶硅层(2)与第二掺杂多/微晶硅层(6)中的掺杂剂类型不同。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的