[实用新型]一种PCB曝光机的曝光框架结构有效

专利信息
申请号: 201721538751.4 申请日: 2017-11-16
公开(公告)号: CN207601504U 公开(公告)日: 2018-07-10
发明(设计)人: 王福存 申请(专利权)人: 清远市富盈电子有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 代理人: 陈娟
地址: 511500 广东省清*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 曝光框架 本实用新型 麦拉膜 曝光框 设备领域 亚克力板 曝光
【权利要求书】:

1.一种PCB曝光机的曝光框架结构,包括曝光框,其特征在于,所述的曝光框内由下而上布置第一麦拉膜、光学亚克力板、第二麦拉膜;所述的第一麦拉膜、光学亚克力板、第二麦拉膜在抽真空的环境中处于紧密贴合状态。

2.根据权利要求1所述的PCB曝光机的曝光框架结构,其特征在于,所述的曝光框为方形结构,所述的光学亚克力板与所述的曝光框的框体形状匹配。

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