[实用新型]一种用于印刷的遮蔽结构有效

专利信息
申请号: 201721539144.X 申请日: 2017-11-17
公开(公告)号: CN207535432U 公开(公告)日: 2018-06-26
发明(设计)人: 项云;聂捷;张许松 申请(专利权)人: 深圳正峰印刷有限公司
主分类号: B32B27/06 分类号: B32B27/06;B32B27/30;B32B27/36;B32B29/00;B32B15/08;B32B15/20;B32B27/08;B32B3/24;B32B33/00
代理公司: 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 代理人: 高占元;吴静
地址: 518128 广东省*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 印刷 遮蔽 遮蔽结构 基体层 麦拉 本实用新型 遮蔽性 胶层 套印 多次印刷 生产效率 贴合连接 印刷油墨 表面能 麦拉层 印刷性 灯孔 光晕 基材 偏位 印件 脏污 油墨 成型 灵活 环保
【说明书】:

实用新型涉及一种用于印刷的遮蔽结构,包括印刷基体层,在所述印刷基体层上设置有至少一遮蔽部,所述遮蔽部与所述印刷基体层之间设置有裱胶层并通过所述裱胶层相连接,所述遮蔽部包括麦拉层。本实用新型的用于印刷的遮蔽结构通过利用高遮蔽性的麦拉,避免多次印刷,仅需一次裱胶作业,提高了生产效率;对于灯孔印件,避免了多次套印作业造成光晕、偏位、脏污等品质不良的问题;麦拉表面能高,印刷性好,成型方便,与基材贴合连接后的效果与印刷油墨相比更灵活、更精准地实现了不同区域的遮蔽性要求;麦拉相较于遮蔽型油墨更符合环保的要求。

技术领域

本实用新型涉及印刷技术领域,更具体地说,涉及一种用于印刷的遮蔽结构。

背景技术

目前传统增强遮蔽性的方式一般是在基材上多次印刷油墨实现遮蔽效果,但其存在如下不足:若为UV油墨,因UV印刷次数多而导致著墨性不好;若将UV油墨更换为遮蔽性更好的溶剂型油墨,则颜色需重新调试,这样会面临可能调试不出的问题,且溶剂油墨较UV油墨印刷效率更低,极为不环保;当有灯孔存在时,需做镂空处理,且每次印刷时都需套印,因而易产生光晕、偏位、脏污,使印刷难度增加,不仅品质下降,效率降低,而且成本也会大幅上升。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于印刷的遮蔽结构,解决了现有技术中的印刷油墨遮蔽性不强、基材在著墨上的局限性以及灯孔对遮蔽要求严格导致不易实施等的问题。

本实用新型解决技术问题所采用的技术方案是:一种用于印刷的遮蔽结构,包括印刷基体层,在所述印刷基体层上设置有至少一遮蔽部,所述遮蔽部与所述印刷基体层之间设置有裱胶层并通过所述裱胶层相连接,所述遮蔽部包括麦拉层。

在本实用新型的遮蔽结构中,所述印刷基体层包括基材层,在所述基材层的至少一侧设有第一印刷图案层。

在本实用新型的遮蔽结构中,所述基材层为PC、PET、ABS、PS、PMMA或纸制成的基材层。

在本实用新型的遮蔽结构中,所述第一印刷图案层的数量为两个且分别设在所述基材层的两侧。

在本实用新型的遮蔽结构中,所述遮蔽部还包括第二印刷图案层,所述第二印刷图案层设在所述麦拉层的至少一侧。

在本实用新型的遮蔽结构中,所述第二印刷图案层的数量为两个且分别设在所述麦拉层的两侧。

在本实用新型的遮蔽结构中,所述麦拉层是由铜箔麦拉、铝箔麦拉、PC或PET制成的麦拉层。

在本实用新型的遮蔽结构中,所述麦拉层的厚度为0.01mm-0.5mm。

实施本实用新型的用于印刷的遮蔽结构,具有以下有益效果:本实用新型的用于印刷的遮蔽结构通过利用高遮蔽性的麦拉,避免多次印刷,仅需一次裱胶作业,提高了生产效率;对于灯孔印件,避免了多次套印作业造成光晕、偏位、脏污等品质不良的问题;对于表面能低的基材印刷油墨易产生著墨性不良,而麦拉无需考虑其表面能高低,只需选择合适颜色的麦拉或在麦拉上设置所需颜色的图案层并与基材贴合连接即可;麦拉表面能高,印刷性好,成型方便,与基材贴合连接后的效果与印刷油墨相比更灵活、更精准地实现了不同区域的遮蔽性要求;麦拉相较于遮蔽型油墨更符合环保的要求。

附图说明

图1为本实用新型的用于印刷的遮蔽结构的第一实施例的结构示意图;

图2为本实用新型的用于印刷的遮蔽结构的第二实施例的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例,对本实用新型的用于印刷的遮蔽结构作进一步说明:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳正峰印刷有限公司,未经深圳正峰印刷有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721539144.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top