[实用新型]一种提高平面抛光镜盘平行精度的装置有效

专利信息
申请号: 201721562372.9 申请日: 2017-11-21
公开(公告)号: CN207508915U 公开(公告)日: 2018-06-19
发明(设计)人: 宋雅丽;解新锋;符松展;王志刚 申请(专利权)人: 利达光电股份有限公司
主分类号: B24B13/00 分类号: B24B13/00;B24B13/005
代理公司: 郑州红元帅专利代理事务所(普通合伙) 41117 代理人: 秦舜生
地址: 473000 *** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 镜盘 研磨盘 装夹装置 压盘 平行 本实用新型 平面抛光 驱动机构 螺丝孔 支撑杆 铁笔 底部连接 顶部中心 弧形外沿 紧固螺栓 研磨层 抛光 后镜 内圆 有压 垂直
【说明书】:

本实用新型公开了一种提高平面抛光镜盘平行精度的装置,包括机架,所述机架上安装有压盘、研磨盘及支撑杆,所述压盘顶部中心设有螺丝孔,所述支撑杆一端通过铁笔头垂直插入螺丝孔中与压盘连接,另一端固定在机架上,所述压盘下面设有研磨层,所述研磨盘顶部放置有镜盘,所述研磨盘上设有装夹装置,所述装夹装置内圆直径大于镜盘直径,所述装夹装置为4个,均匀间断的设置在镜盘四周,且与镜盘紧密接触,所述装夹装置包括弧形外沿和紧固螺栓;所述研磨盘底部连接有一驱动机构,所述驱动机构连接有主轴,通过主轴带动研磨盘进行旋转。本实用新型可将抛光后镜盘的平行差从0.005~0.02mm降低到 0.003mm以内,从而提高整盘零件的角度精度。

技术领域

本实用新型涉及光学元件平面研磨加工技术领域,具体的说,是涉及一种提高平面抛光镜盘平行精度的装置。

背景技术

目前,光学元件平面研磨在工程上通常采用成盘加工的方法,成盘后要经过铣磨、精磨、抛光等工序,在抛光过程中由于设备主轴跳动,镜盘上各个零件分布位置及数量的影响,会产生0.005~0.02mm的误差,这部分误差一直无法校正,从而影响整盘零件的角度精度,因此设计出一种在抛光过程中提高镜盘平行差的装置,使抛光后镜盘的平行差从0.005~0.02mm降低到 0.003mm以内,成为了本领域的一个攻关课题。

实用新型内容

为了克服现有技术的上述缺点,本实用新型提供一种提高平面抛光镜盘平行精度的装置,通过使用此装置可将抛光后镜盘的平行差从0.005~0.02mm降低到 0.003mm以内,从而提高整盘零件的角度精度。

为达到上述目的,本实用新型采用的技术方案是:一种提高平面抛光镜盘平行精度的装置,包括机架,所述机架上安装有压盘、研磨盘及支撑杆,所述压盘顶部中心设有螺丝孔,所述支撑杆一端通过铁笔头垂直插入螺丝孔中与压盘连接,另一端固定在机架上,所述压盘下面设有研磨层;所述研磨盘顶部放置有镜盘,所述研磨盘上设有装夹装置,所述装夹装置内圆直径大于镜盘直径,所述装夹装置为4个,均匀间断的设置在镜盘四周,且与镜盘紧密接触,所述装夹装置包括弧形外沿和紧固螺栓;所述研磨盘底部连接有一驱动机构,所述驱动机构连接有主轴,通过主轴带动研磨盘进行旋转。

进一步的,所述驱动机构选用减速电机。

进一步的,所述研磨层为聚氨酯片,用于对镜盘内的镜片抛光。

进一步的,所述压盘底部设有旋转电机,旋转电机通过旋转轴与压盘连接,从而可以带动压盘旋转。

进一步的,所述机架上靠近研磨盘的一侧设有抛光液喷头,所述喷头将抛光液喷到研磨盘上对其进行抛光,从而使光学元件表面逐渐从磨砂面变为抛光面。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果为:各种成盘的平面零件均可使用本实用新型发明的装置进行抛光,能将抛光后镜盘的平行差从0.005~0.02mm降低到 0.003mm以内,从而有效的提高整盘零件的角度精度。

该发明不改变现有抛光设备的结构,只需一个装夹装置即可实现,在工程上操作简单、快捷,对人员、设备、环境无特殊要求,适用性广适合于大批量高精度产品的加工。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请中记载的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1所示为本实用新型结构示意图;

图2所示为本实用新型装夹装置与镜盘连接关系示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的技术方案进行详细的描述:

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