[实用新型]一种多层烧结试样的坩埚有效
申请号: | 201721563431.4 | 申请日: | 2017-11-21 |
公开(公告)号: | CN207576445U | 公开(公告)日: | 2018-07-06 |
发明(设计)人: | 单科 | 申请(专利权)人: | 红河学院 |
主分类号: | B01L3/04 | 分类号: | B01L3/04 |
代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 王加贵 |
地址: | 650000 云南省*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 坩埚 烧结试样 多层 本实用新型 烧结 空心圆台形 烧结空间 有效解决 内底面 外底面 粘结 能源 | ||
1.一种多层烧结试样的坩埚,其特征在于:至少包括第一坩埚(1)和第二坩埚(2),所述第二坩埚(2)位于所述第一坩埚(1)上方,所述第二坩埚(2)插入至所述第一坩埚(1)内,且所述第二坩埚(2)外底面与所述第一坩埚(1)内底面之间形成烧结空间。
2.根据权利要求1所述的多层烧结试样的坩埚,其特征在于:所述第二坩埚(2)和所述第一坩埚(1)均为空心圆台形坩埚。
3.根据权利要求2所述的多层烧结试样的坩埚,其特征在于:所述第二坩埚(2)的底面直径大于所述第一坩埚(1)的底面直径且所述第二坩埚(2)的底面直径小于所述第一坩埚(1)的顶部直径。
4.根据权利要求1所述的多层烧结试样的坩埚,其特征在于:所述第一坩埚(1)为圆台形,所述第二坩埚(2)顶部设置有卡接凸沿,所述卡接凸沿的外径大于所述第一坩埚(1)顶部的内径。
5.根据权利要求4所述的多层烧结试样的坩埚,其特征在于:所述卡接凸沿为空心圆台形。
6.根据权利要求4所述的多层烧结试样的坩埚,其特征在于:所述第二坩埚(2)的卡接凸沿的底部表面的高度大于所述第一坩埚(1)的上表面的高度。
7.根据权利要求4所述的多层烧结试样的坩埚,其特征在于:所述第二坩埚(2)的卡接凸沿的底部表面与所述第一坩埚(1)的上表面接触。
8.根据权利要求7所述的多层烧结试样的坩埚,其特征在于:还包括第三坩埚(4),所述第三坩埚(4)位于所述第二坩埚(2)上方,所述第三坩埚(4)插入至所述第二坩埚(2)内,且所述第三坩埚(4)外底面与所述第二坩埚(2)内底面之间形成烧结空间;所述第三坩埚(4)顶部设置有卡接凸沿,所述第三坩埚(4)顶部的所述卡接凸沿的外径大于所述第二坩埚(2)顶部的所述卡接凸沿的内径,所述第三坩埚(4)的卡接凸沿的底部表面与所述第二坩埚(2)的卡接凸沿的上表面接触。
9.根据权利要求8所述的多层烧结试样的坩埚,其特征在于:所述第一坩埚(1)、所述第二坩埚(2)和所述第三坩埚(4)的底部均设置有进气孔,所述进气孔横截面为圆形或者方形。
10.根据权利要求8所述的多层烧结试样的坩埚,其特征在于:所述第一坩埚(1)、所述第二坩埚(2)和所述第三坩埚(4)的侧壁均设置有进气孔,所述进气孔横截面为圆形或者方形。
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