[实用新型]一种电视机触摸玻璃盖板

权利要求书

1.一种电视机触摸玻璃盖板，其特征在于：包括电子玻璃基片及其表面设置的ITO叠加功能膜系，ITO叠加功能膜系依玻璃基片表面向外，依次为：第一层为SiO₂膜层，第二层为Nb₂O₅膜层，第三层为Nb₂O₅膜层，第四层为SiO₂膜层，第五层为SiO₂膜层，第六层为Nb₂O₅膜层，第七层为Nb₂O₅膜层，第八层为SiO₂膜层，第九层为SiO₂膜层，第十层为ITO导电膜层，第十一层为ITO导电膜层，第十二层为SiO₂膜层。

2.根据权利要求1所述的一种电视机触摸玻璃盖板，其特征在于：所述第一层为SiO₂膜层，设置溅射沉积薄膜厚度18nm,采用中频磁控溅射工艺，溅射功率为15kw，基片装置移动速率4m/min。

3.根据权利要求1所述的一种电视机触摸玻璃盖板，其特征在于：所述第二层、所述第三层为Nb₂O₅膜层，设置溅射沉积薄膜厚度为15nm，采用中频磁控溅射工艺，溅射功率为30kw，基片装置移动速率4m/min。

4.根据权利要求1所述的一种电视机触摸玻璃盖板，其特征在于：所述第四层、所述第五层为SiO₂膜层设置溅射沉积薄膜厚度分别为15nm和18nm，采用中频磁控溅射工艺，溅射功率分别为30kw和31kw，基片装置移动速率4m/min。

5.根据权利要求1所述的一种电视机触摸玻璃盖板，其特征在于：所述第六层、所述第七层为Nb₂O₅膜设置溅射沉积薄膜厚度分别为20nm和25nm，采用中频磁控溅射工艺，溅射功率分别为38kw和40kw，基片装置移动速率4m/min。

6.根据权利要求1所述的一种电视机触摸玻璃盖板，其特征在于：所述第八层、所述第九层为SiO₂膜层设置溅射沉积薄膜厚度为20nm，采用中频磁控溅射工艺，溅射功率为18kw，基片装置移动速率4m/min。

7.根据权利要求1所述的一种电视机触摸玻璃盖板，其特征在于：所述第十层、所述第十一层膜层设置溅射沉积为导电薄膜ITO，其溅射沉积厚度分别为20nm和10nm,采用直流磁控溅射工艺，溅射功率分别为30kw和15kw，基片装置移动速率4m/min。

8.根据权利要求1所述的一种电视机触摸玻璃盖板，其特征在于：所述第十二层为SiO₂膜层，采用中频磁控溅射工艺，溅射功率分别为18kw, 溅射薄膜厚度为20nm,基片装置移动速率4m/min。