[实用新型]一种等离子表面处理装置有效
申请号: | 201721569796.8 | 申请日: | 2017-11-21 |
公开(公告)号: | CN207460574U | 公开(公告)日: | 2018-06-05 |
发明(设计)人: | 蔡卫;罗弦;黄明柱;何鹏 | 申请(专利权)人: | 深圳市诚峰智造有限公司 |
主分类号: | H05H1/26 | 分类号: | H05H1/26 |
代理公司: | 深圳市博锐专利事务所 44275 | 代理人: | 张明 |
地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 容置腔 喷嘴 等离子表面处理装置 通槽 等离子发生器 条形缝隙 柱形通孔 外槽口 套管 本实用新型 待处理产品 电极设置 封闭区域 生产需求 电极 大工件 内槽口 腔口处 连通 平行 垂直 贯穿 | ||
本实用新型公开了一种等离子表面处理装置,包括等离子发生器套管、电极和喷嘴,所述等离子发生器套管内包括容置腔,所述电极设置于所述容置腔内;所述喷嘴设置于所述容置腔的腔口处;所述喷嘴上设置有连通容置腔与外界的通槽,所述通槽包括朝向容置腔的内槽口和朝向外界的外槽口,所述外槽口包括相连通的条形缝隙和柱形通孔,条形缝隙与柱形通孔相平行且均沿垂直于通槽深度的方向贯穿喷嘴。该等离子表面处理装置可以在待处理产品上形成一个均匀的封闭区域,处理效果得到明显提升,且处理范围可达10‑30mm,远超过现有技术的5mm,能够满足现有大工件的生产需求。
技术领域
本实用新型涉及等离子设备技术领域,尤其涉及一种等离子表面处理装置。
背景技术
等离子体由于其良好的流动性和、扩散性、导电性和导热性而被广泛应用于各个领域,从我们的日常生活到工业、农业、环保、军事、宇航、能源、天体等方面,它都有非常重要的应用价值,等离子喷枪的使用也越来越多。但是现有的等离子喷枪大多如专利号为201610639035.9的中国专利中所示的,喷枪的喷嘴为圆形喷嘴,等离子体只能从中间的圆形小孔中出来,等离子喷枪的最大处理直径只有5mm,已经无法满足较大工件的生产需求。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是:提供一种等离子表面处理装置,具有较大的处理范围,可满足现有大工件的生产需求。
为了解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案为:
一种等离子表面处理装置,包括等离子发生器套管、电极和喷嘴,所述等离子发生器套管内包括容置腔,所述电极设置于所述容置腔内;所述喷嘴设置于所述容置腔的腔口处;所述喷嘴上设置有连通容置腔与外界的通槽,所述通槽包括朝向容置腔的内槽口和朝向外界的外槽口,所述外槽口包括相连通的条形缝隙和柱形通孔,条形缝隙与柱形通孔相平行且均沿垂直于通槽深度的方向贯穿喷嘴。
进一步的,所述条形缝隙位于所述喷嘴的最外侧,所述柱形通孔设置于所述条形缝隙的内侧。
进一步的,所述柱形通孔为圆柱形。
进一步的,所述柱形通孔的内径大于所述条形缝隙的宽度。
进一步的,还包括喷嘴保护套,所述喷嘴保护套的顶端套设于所述容置腔的腔口内;所述喷嘴套设于所述喷嘴保护套内。
进一步的,还包括喷嘴紧压指环,所述喷嘴保护套的顶端包括两层台阶面,所述容置腔的腔口设置有止挡部,所述喷嘴紧压指环夹设于上层台阶面与所述止挡部之间,所述喷嘴设置于所述下层台阶面与喷嘴紧压指环之间。
进一步的,所述喷嘴保护套与所述等离子发生器套管通过螺丝连接。
进一步的,所述内槽口的面积大于所述外槽口的面积。
进一步的,还包括旋转驱动装置,所述旋转驱动装置连接于所述喷嘴。
本实用新型的有益效果在于:该等离子表面处理装置的喷嘴由现有的圆孔式改为条形缝隙状的开槽式,且设置柱形通孔与条形缝隙相连通,保证了从喷嘴出来的工作气流形成一个均匀的扇形效果,可以在待处理产品上形成一个均匀的封闭区域,处理效果得到明显提升,且处理范围可达10-30mm,远超过现有技术的5mm,能够满足现有大工件的生产需求。
附图说明
图1为本实用新型实施例的等离子表面处理装置的结构爆炸图;
图2为本实用新型实施例的等离子表面处理装置的剖视图;
标号说明:
1、等离子发生器套管;2、电极;3、喷嘴;31、条形缝隙;32、柱形通孔;4、喷嘴保护套;5、喷嘴紧压指环。
具体实施方式
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