[实用新型]一种光阻供应系统有效

专利信息
申请号: 201721571579.2 申请日: 2017-11-22
公开(公告)号: CN207502908U 公开(公告)日: 2018-06-15
发明(设计)人: 易振辉;周坤 申请(专利权)人: 武汉新芯集成电路制造有限公司
主分类号: G03F7/16 分类号: G03F7/16
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 俞涤炯
地址: 430205 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 供应装置 送液泵 阀门 机台 光阻 光阻供应系统 第二管道 第一管道 微影制程 光阻剂 装设 连通 半导体制造技术 本实用新型 工作效率 喷嘴 输出端 输入端 停机 应用
【说明书】:

本实用新型公开了一种光阻供应系统,属于半导体制造技术领域,应用于微影制程中,包括:第一供应装置,用于装设光阻剂;第二供应装置,用于装设光阻剂;送液泵,所述送液泵的输入端通过第一管道连接所述第一供应装置,以及通过第二管道连接所述第二供应装置,所述送液泵的输出端连通一喷嘴;第一阀门,设置于所述第一管道上;第二阀门,设置于所述第二管道上;所述第二阀门与所述第一阀门反向工作的使所述送液泵与所述第一供应装置或所述第二供应装置连通。上述技术方案的有益效果是:通过设置两个光阻供应装置,交替为微影制程机台供应光阻,避免机台因更换光阻而停机,从而提高机台的工作效率。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种适用微影制程中的光阻供应系统。

背景技术

在半导体制造过程中,微影用于图案化基板如晶圆,以形成集成电路的多种结构。在一般的微影制程中,光阻层形成于基板上,并以射线曝光形成集成电路的潜影像。接着在显影剂如化学溶液中显影曝光后的光阻层,以移除部份光阻层并形成光阻图案。接着以光阻图案作为后续蚀刻制程的蚀刻掩模,将图案转移至下方的材料层。

光阻是半导体微影制程中必不可少也是特有的一种常用物料,每一道微影制程中都会用到,因此半导体生产过程中光阻的更换较为频繁。现有技术中,光阻的供应一般是通过向光阻瓶内充入氮气以将光阻压到一个缓存槽内,再通过送液泵将光阻抽送至喷嘴处,通过一个电磁阀开关控制光阻从喷嘴喷出,以将光阻涂覆在晶圆上。在光阻瓶里面光阻用尽,缓存槽得不到补偿时,缓存槽里面的液面会下降,当缓存槽内的液面降低到一定程度后机台就会停止工作并发出光阻报空的警报,需要更换光阻之后机台才能正常工作。

正常情况下,从机台发出光阻报空的警报,工作人员发现警报去机台端检查管路是否确实报空,再去光阻柜找到待更换的光阻,一般需要10~15mins 左右。还有很多时候机台报空没有被及时发现,或者因为别的原因延迟,这个时间可能长达半小时乃至一个小时,导致机台闲置,降低机台的工作效率。

发明内容

根据现有技术中存在的上述问题,现提供一种光阻供应系统,应用于微影制程中,旨在解决现有技术中,由于光阻液供应不及时导致的微影制程机台工作效率低的问题。本实用新型采用如下技术方案:

一种光阻供应系统,应用于微影制程中,包括:

第一供应装置,用于装设光阻剂;

第二供应装置,用于装设光阻剂;

送液泵,所述送液泵的输入端通过第一管道连接所述第一供应装置,以及通过第二管道连接所述第二供应装置,所述送液泵的输出端连通一喷嘴;

第一阀门,设置于所述第一管道上;

第二阀门,设置于所述第二管道上;

所述第二阀门与所述第一阀门反向工作的使所述送液泵与所述第一供应装置或所述第二供应装置连通。

较佳的,上述光阻供应系统中,所述第一供应装置包括:

第一缓存槽,所述第一缓存槽的底部与所述第一管道连接以使所述第一缓存槽与所述第一管道连通;

第三管道,所述第三管道的一端连接所述第一缓存槽的顶部以连通所述第一缓存槽,所述第三管道未连接所述第一缓存槽的一端伸入至第一光阻瓶内;

第一气源,连通所述第一光阻瓶并向所述第一光阻瓶内充气。

较佳的,上述光阻供应系统中,包括第一液位传感器,设置于所述第一缓存槽内接近所述第一缓存槽的底部的侧壁上;

所述第一液位传感器连接一报警装置。

较佳的,上述光阻供应系统中,所述第二供应装置包括:

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