[实用新型]一种高稳定性光学调整架有效

专利信息
申请号: 201721574745.4 申请日: 2017-11-22
公开(公告)号: CN207396819U 公开(公告)日: 2018-05-22
发明(设计)人: 井旭 申请(专利权)人: 济南快谱光电技术有限公司
主分类号: G02B7/00 分类号: G02B7/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 250000 山东省济南市*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 稳定性 光学 调整
【说明书】:

实用新型提出一种高稳定性光学调整架,包括主体架,所述主体架的底部设置有侧翼台,所述主体架上设置有用来放置光学元件的安装孔和安装轴肩,所述安装孔内活动连接有压圈,压圈和安装轴肩之间设置有缓冲O型圈,所述侧翼台上连接有2个调节螺丝且靠近侧翼台的右侧,所述主体架的底部设置有调节支撑点,所述调节支撑点靠近侧翼台的左侧并且与2个调节螺丝呈三角分布。本实用新型采用安装轴肩和缓冲O型圈挤压光学元件方式,既保证了光学元件和主体架之间位置关系的稳定性,又避免了光学元件由于受热畸变而造成损伤,同时利用调节螺丝与调节支撑点互相配合来调节调整架的俯仰偏摆以达到实验要求,操作十分简捷而且可靠度高。

技术领域

本实用新型属于光学器件领域,尤其涉及一种高稳定性光学调整架。

背景技术

在光学的实验与研究中,人们通常需要借助光学元件来进行观察和描述性的记录,尤其是现在光学研究越来越细致入微,精度要求也越来越高,因此人们对光学元件在实验中的稳定性提出较高的要求。从作用上来讲,光学系统中的光学元件稳定性决定了整个光学系统的性能是否稳定,特别是在激光器系统中,其光学元件的稳定性直接决定了输出激光的能量、模式、偏振性等参数。普通实验室条件下,光学设备的工作环境是可控的,可以实现恒温、恒湿的工作模式。这种条件下的光学元件,光机器件的状态是稳定的,只要调试安装到位,其光学系统的性能一定是稳定的。而当在室外的自然环境下工作时,恒温恒湿的工作条件就很难保证了,湿度、洁净度问题相对好处理,可以使用局部环境密闭的方式来解决;提及到温度问题就相对要复杂一些,不同的材料对于相同的温度变化时其机械性能都不相同,相互接触的元件很容易出现由于温度变化造成的应力畸变,这些变化的尺度大多数都是微米级别的,再加上多个元件的应力变化叠加之后,光学系统的传输状态就被破坏了。尤其激光系统出现这种光路失调的状况,轻则造成功率、能量的下降,导致激光模式的破坏,重则造成无激光输出,导致光学元件损坏等;不论是何种原因造成的实验失败,它不仅仅关系到实验的成本,还影响到相关研究人员的科研成果的先进性,甚至是个各国在光学领域的竞争。

实用新型内容

本实用新型针对上述的光学元件在定位方面所存在的技术问题,提出一种设计合理、结构简单、定位准确且物理性能恒定的高稳定性光学调整架。

为了达到上述目的,本实用新型采用的技术方案为,本实用新型提供的一种高稳定性光学调整架,包括主体架,所述主体架的底部设置有侧翼台,所述主体架上设置有用来放置光学元件的安装孔和安装轴肩,所述安装孔内活动连接有压圈,所述压圈和安装轴肩之间设置有缓冲O型圈,所述侧翼台上连接有调节螺丝,所述调节螺丝共有2个且靠近侧翼台的右侧,所述主体架的底部设置有调节支撑点,所述调节支撑点靠近侧翼台的左侧并且和2个调节螺丝呈三角分布。

作为优选,所述侧翼台的左右两边设置有安装螺丝和螺丝槽,所述螺丝槽的侧面为半开结构。

作为优选,所述调节支撑点为圆锥状的凸起且圆锥的顶点朝下。

作为优选,所述安装轴肩接触光学元件的一面为精加工表面。

与现有技术相比,本实用新型的优点和积极效果在于,

1、本实用新型提供的一种高稳定性光学调整架,利用精加工表面和柔性材料挤压光学元件固定方式,保证了光学元件和主体架之间的位置关系稳定性,避免了光学元件由于受热畸变而造成损伤,同时利用调节螺丝与调节支撑点互相配合来调节调整架的俯仰偏摆以达到实验要求,操作十分简捷而且可靠度高。本实用新型设计合理、结构简单,适合大规模推广。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作一简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为实施例提供的一种高稳定性光学调整架的整体结构示意图;

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