[实用新型]一种抗侵蚀的玻璃窑炉

说明书

本实用新型公开了一种抗侵蚀的玻璃窑炉，包括炉池、喉管和用于分解玻璃液涡流的缓冲块；所述缓冲块设置在炉池池壁的内壁上，缓冲块与池壁的连接处为台阶面，喉管设置在池壁上并穿过缓冲块；所述冲缓冲块的端面为凸起的圆弧面。该玻璃窑炉有效降低了玻璃液形成的涡流对池壁的侵蚀强度，延长了窑炉的使用寿命，且该窑炉结构简单，制作成本低，具有较高的使用价值和推广价值。

技术领域

本实用新型涉及玻璃窑炉结构设备领域，具体为一种抗侵蚀的玻璃窑炉。

背景技术

在玻璃窑炉池壁砖是形成玻璃窑炉熔池的关键材料，一般采用锆刚玉能抗侵蚀比较强的材料，在无碱玻璃等高熔点的窑炉还会使用到电熔高锆这样的材料，提高抗侵蚀能力，延长窑炉的使用寿命。

但是，在一些特殊部位，池壁砖的侵蚀依旧很快，严重影响了窑炉的使用寿命。例如，在窑炉的流液洞口或玻璃液出口，由于玻璃流速突然加快，在喉管周围形成玻璃液的涡流，对池壁砖形成快速的冲刷，最后造成这些部位变薄，甚至穿透漏料。采用的常规措施，就是在侵蚀部位加冷却风，降低局部温度，使玻璃液流速下降，但是一般喉管外侧的区域空间狭小，冷却设备很难布局，最终效果并不明显。还有在内部增加贵金属护板的方式，也是效果甚微。

如图2所示，为现有的窑炉池壁结构，喉管设置在池壁的下部，玻璃液在喉管周围形成涡流，经过旋转后进入喉管，玻璃液侵蚀池壁砖形成了局部凹陷区域，形成的凹陷区域如图1所示，严重时会侵蚀穿透池壁最终造成该部位漏料。

针对现有的技术问题，实有必要设计一种抗侵蚀的玻璃窑炉，解决玻璃溶液侵蚀池壁的问题。

实用新型内容

针对现有技术中存在的问题，本实用新型提供一种抗侵蚀的玻璃窑炉，在窑炉的喉管位置设置缓冲块，使玻璃液形成的涡流向上移动并扩散，减少对窑炉池壁的侵蚀，提高窑炉的使用寿命。

本实用新型是通过以下技术方案来实现：

一种抗侵蚀的玻璃窑炉，包括炉池、喉管和用于分解玻璃液涡流的缓冲块；

其中，所述缓冲块设置在炉池池壁的内壁上，喉管设置在池壁上并穿过缓冲块；所述缓冲块的端面为凸起的圆弧面。

进一步，所述圆弧面包括上弧面和下弧面，所述上弧面和下弧面的结合处平滑过度。

进一步，所述上弧面的弧面半径为360mm～365mm；所述下弧面的弧面半径为1.2×360mm～365mm。

进一步，所述缓冲块与池壁的连接处为台阶面或平滑过度面。

进一步，所述上弧面边缘到喉管壁的垂直高度为喉管到炉池顶面距离的 1/3～1/4。

进一步，所述圆弧面顶点到池壁的内壁水平距离为池壁厚度的 1/2～1/3。

进一步，所述缓冲块为圆柱体。

进一步，所述缓冲块和池壁为整体结构。

与现有技术相比，本实用新型具有以下有益的技术效果：

本实用新型提供了一种抗侵蚀的玻璃窑炉，通过在喉管的位置增加缓冲款，缓冲块的端面为凸起的圆弧面，该圆弧面使玻璃液在喉管附近形成涡流顺着圆弧面向上移动，并以喉管为中心向四周扩散，降低涡流的强度，减少涡流对窑炉池壁的侵蚀，同时该缓冲块也对池壁起到了局部加厚的作用，有效延长了窑炉的使用寿命。

附图说明

图1为现有窑炉喉管部位的侵蚀效果图；

图2为现有窑炉的结构示意图；

图3为本实用新型窑炉的结构示意图；

图4为本实用新型的窑炉喉管部位的结构示意图；