[实用新型]UV解胶机有效
申请号: | 201721599436.2 | 申请日: | 2017-11-24 |
公开(公告)号: | CN207818529U | 公开(公告)日: | 2018-09-04 |
发明(设计)人: | 尹达 | 申请(专利权)人: | 宁波比亚迪半导体有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 深圳众鼎专利商标代理事务所(普通合伙) 44325 | 代理人: | 谭果林 |
地址: | 315800 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 解胶 工作空间 驱动装置 上下料 遮光罩 控制装置 托盘 电性连接 晶圆 本实用新型 紫外光阻挡 安全隐患 光照区域 位置邻近 紫外光 胶位置 开合 照射 传送 封闭 伤害 移动 | ||
本实用新型提供了一种UV解胶机,包括机架,机架内设有封闭的工作空间,机架上设有UV光源和能够开合工作空间的遮光罩,UV光源位于工作空间内,还包括控制装置,机架内设有上下料位置和解胶位置,上下料位置邻近遮光罩,解胶位置位于UV光源的光照区域,机架内设有用于放置晶圆的托盘及用于在上下料位置与解胶位置之间传送托盘的驱动装置,UV光源和驱动装置分别与控制装置电性连接机架上设有遮光罩;通过控制装置与驱动装置的电性连接,使得驱动装置精准的将晶圆移动到上下料位置或解胶位置,使得解胶充分。通过遮光罩的设置,将机架内工作空间中的紫外光阻挡在工作空间内,不会照射到机架外,有效的阻止了紫外光对人体的伤害,不会造成安全隐患。
技术领域
本实用新型属于UV解胶设备技术领域,更具体地说,是涉及一种UV解胶机。
背景技术
在半导体工业生产中,有时需要在晶圆表面贴上UV膜,以便于对晶圆进行工艺加工。在加工完成后需要去除UV膜,用UV灯照射后,UV膜的粘度降低,可以方便去除UV膜。
现有的UV解胶机使用4组紫外灯管作为光源照射晶圆,手动计时,计时结束手动取下晶圆。
然而,现有的UV解胶机结构简单,需手动上下晶圆,人体容易照射到紫外线,效率不高且会对人体造成损害。
由于现有的UV解胶机使用普通紫外灯管作为光源,导致光强较小,且伴有大量发热,在进行光照时容易对晶圆形成干扰,光强小,粘度去除不够,容易在晶圆上留下残胶,会对晶圆工艺造成严重影响,灯管寿命较短(200小时),需经常更换灯管。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种UV解胶机,以解决现有技术中存在的UV解胶机在使用过程中,存在着手动操作工作效率低和安全隐患的技术问题。
为实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:提供一种UV解胶机,包括机架,所述机架内设有封闭的工作空间,所述机架上设有UV光源和能够开合
所述工作空间的遮光罩,所述UV光源位于所述工作空间内,还包括控制装置,所述机架内设有上下料位置和解胶位置,所述上下料位置邻近所述遮光罩,所述解胶位置位于所述UV光源的光照区域,所述机架内设有用于放置晶圆的托盘及用于在所述上下料位置与所述解胶位置之间传送所述托盘的驱动装置,所述UV光源和所述驱动装置分别与所述控制装置电性连接。
进一步地,所述驱动装置包括驱动器和受所述驱动器驱动的机械臂。
进一步地,所述机架内设有机械臂安放槽,所述机械臂安放槽内设有轨道,所述驱动装置滑动设于所述轨道上。
进一步地,所述机架上倾斜设有控制面板。
进一步地,所述控制面板上设有触摸屏,所述触摸屏与所述控制装置电性连接。
进一步地,所述控制面板上设有光源控制器,所述光源控制器与所述控制装置电性连接。
进一步地,所述UV光源为位于所述机械臂安放槽的上方的LED灯。
进一步地,所述机架内设有用于感应所述机械臂的位置的位置传感器以及用于感应所述托盘上是否放置有晶圆的感应晶圆传感器,所述位置传感器与所述控制装置电性连接,所述感应晶圆传感器与所述控制装置电性连接。
进一步地,还包括用于感应所述遮光罩是否闭合的遮光闭合传感器,所述遮光闭合传感器与所述控制装置电性连接。
进一步地,所述机架内设有用于感应工作空间内的温度的温度传感器,所述温度传感器与所述控制装置电性连接。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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