[实用新型]雷射喷头的导正构造有效
| 申请号： | 201721605507.5 | 申请日： | 2017-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN207508538U | 公开（公告）日： | 2018-06-19 |
| 发明（设计）人： | 方菘岭 | 申请（专利权）人： | 方菘岭 |
| 主分类号： | B23K26/70 | 分类号： | B23K26/70;B23K26/38 |
| 代理公司： | 厦门市新华专利商标代理有限公司 35203 | 代理人： | 朱凌 |
| 地址： | 中国台湾台南*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抵止 喷头 底座 承载面 螺接部 插入口 螺孔中 导正 雷射 螺孔 本实用新型 邻接 螺接 相抵 稳固 延伸 | ||
【权利要求书】：
1.一种雷射喷头的导正构造，其特征在于，包括：
一底座，有一螺孔，该螺孔有一插入口，该底座有一第一抵止斜面位于该螺孔中并邻接该插入口；
一喷头，有一承载面，以及有一螺接部自该承载面延伸，在该承载面及该螺接部之间有一第二抵止斜面；
该喷头以该螺接部螺接在该底座的螺孔中，并使该第二抵止斜面抵止在该第一抵止斜面上。
2.如权利要求1所述的雷射喷头的导正构造，其特征在于：该第一抵止斜面及该第二抵止斜面的倾斜角度介于30度至60度之间。
3.如权利要求2所述的雷射喷头的导正构造，其特征在于：该第一抵止斜面及该第二抵止斜面的倾斜角度为45度。
4.如权利要求1所述的雷射喷头的导正构造，其特征在于：该底座上有多个散热鳍片。
5.如权利要求4所述的雷射喷头的导正构造，其特征在于：相邻散热鳍片的间距介于1.5厘米至2.5厘米之间。
6.如权利要求5所述的雷射喷头的导正构造，其特征在于：相邻散热鳍片的间距为2厘米。
7.如权利要求1所述的雷射喷头的导正构造，其特征在于：在该底座上有一环型的凹沟。
8.如权利要求7所述的雷射喷头的导正构造，其特征在于：该凹沟的深度介于2厘米至4厘米之间。
9.如权利要求8所述的雷射喷头的导正构造，其特征在于：该凹沟的深度为2.5厘米。
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