[实用新型]一种提高TFT基板玻璃传送系统的均化能力的装置有效
申请号: | 201721608484.3 | 申请日: | 2017-11-28 |
公开(公告)号: | CN207987020U | 公开(公告)日: | 2018-10-19 |
发明(设计)人: | 叶于文 | 申请(专利权)人: | 彩虹显示器件股份有限公司 |
主分类号: | C03B5/235 | 分类号: | C03B5/235;C03B5/43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 保温材料 搅拌室 均化 加热器 玻璃熔液 本实用新型 传送系统 内面 电功率 垂直设置 合金金属 基板玻璃 加热搅拌 空心结构 上层空腔 不规则 非规则 搅拌棒 温度差 桶状 | ||
一种提高TFT基板玻璃传送系统的均化能力的装置,包括用保温材料砌成的桶状搅拌室,垂直设置于搅拌室中央的搅拌棒。所述搅拌室顶部的保温材料内面结构为上大下小的“E”形状或伞状非规则的空心结构;在所述保温材料内面至少设有一个材料为铂、钨、钼其中一种或其合金金属的加热器;所述加热器的电功率为1.0kW至5.0kW。由于本实用新型采用了在搅拌室上部设置不规则保温材料和加热器的技术方案,通过加热搅拌室上层空腔的温度,减少玻璃熔液的温度差,能够提高玻璃熔液搅拌的均化能力,提升基板玻璃品质。本实用新型具有结构简单、实施方便、成本低、玻璃熔液搅拌的均化能力更强的特点。
技术领域
本发明属于玻璃制备领域,具体涉及一种提高TFT基板玻璃传送系统的均化能力的装置。
背景技术
在TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示)基板玻璃生产过程中,搅拌均化玻璃熔液是制备高品质基板玻璃的重要工艺。
玻璃熔液和搅拌室中存在挥发性和破坏性的氧化物,如铂Pt、砷As、和锡Sn等,这些氧化物将可能造成基板玻璃的致命缺陷。
因为玻璃自由表面之上的空气比搅拌室外的空气温度高,如果空腔内空气温度低于包含在搅拌室气氛内的挥发性氧化物的露点,这些氧化物会冷凝并脱落到玻璃熔液中并造成基板玻璃产品中的夹杂物缺陷。同时搅拌的玻璃熔液温度梯度变大,温度差异增大,很容易使搅拌的玻璃熔液体不均匀而产生分相并产生条纹。条纹为液晶显示器基板玻璃中的严重缺陷之一,严重影响产品质量。
目前,本领域采用提高铂金通道的加热功率来提高玻璃液温度的技术方案解决上述问题。但是,由于提高铂金通道的加热功率使得铂金通道温度过高,从而减少铂金通道的使用寿命,导致成本增加。
发明内容
为了克服现有技术的缺陷,本实用新型的目的是提供一种能够提高搅拌室上层空气温度,减少玻璃熔液温度差的基板玻璃熔液均化能力的装置。
为了达到上述目的,本实用新型的技术方案是这样的:
一种提高TFT基板玻璃传送系统的均化能力的装置,包括用保温材料砌成的桶状搅拌室,垂直设置于搅拌室中央的搅拌棒,所述搅拌室顶部的保温材料内面为非规则的空心结构,在所述保温材料内面至少设有一个加热器;
进一步,所述保温材料内面结构为上大下小的“E”形状或伞状;
更进一步,所述加热器的材料为铂、钨、钼其中一种或其合金的金属;
最后,所述加热器的电功率为1.0kW至5.0kW。
由于本实用新型采用了在搅拌室上部设置不规则保温材料和加热器的技术方案,通过加热搅拌室上层空腔的温度,减少玻璃熔液的温度差,能够提高玻璃熔液搅拌的均化能力,提升基板玻璃品质。本实用新型具有结构简单、实施方便、成本低、玻璃熔液搅拌的均化能力更强的特点。
附图说明
图1是本实用新型的的剖面示意图;
图2是“E”型保温材料的剖面图;
其中:
1为搅拌室;2为空腔;3为搅拌层;4为搅拌棒;5为保温材料;6为加热器。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型做进一步说明。
参照图1、2,一种提高TFT基板玻璃传送系统的均化能力的装置,包括用保温材料5砌成的桶状搅拌室1,垂直设置于搅拌室1中央的搅拌棒4,所述搅拌室1顶部的保温材料5内面为非规则的空心结构,在所述保温材料5内面至少设有一个加热器6,所述保温材料5内面结构如从剖面图所示为上大下小的“E”形状或伞状。
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