[实用新型]一种免去边可钢化低辐射镀膜玻璃有效
| 申请号： | 201721656649.4 | 申请日： | 2017-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN207596735U | 公开（公告）日： | 2018-07-10 |
| 发明（设计）人： | 樊义平 | 申请（专利权）人： | 青岛锦绣前程节能玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 北京挺立专利事务所(普通合伙) 11265 | 代理人： | 贾楠楠 |
| 地址： | 266000 山东*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 低辐射镀膜玻璃 本实用新型 氮化硅膜层 玻璃基体 金属钛膜 钢化 氧化锌膜层 氧化锆膜层 厚度设置 膜层材料 生产效率 深加工 银膜层 膜层 去边 | ||
【权利要求书】：
1.一种免去边可钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基体，其特征在于：由玻璃基体向外依次包括：第一氮化硅膜层、氧化锌膜层、第一金属钛膜层、银膜层、第二金属钛膜层、第二氮化硅膜层、氧化锆膜层。
2.根据权利要求1所述的一种免去边可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一氮化硅膜层的厚度为30-40nm。
3.根据权利要求1所述的一种免去边可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述氧化锌膜层的厚度为10-20nm。
4.根据权利要求1所述的一种免去边可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一金属钛膜层的厚度为8-15nm。
5.根据权利要求1所述的一种免去边可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述银膜层的厚度为10-15nm。
6.根据权利要求1所述的一种免去边可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二金属钛膜层的厚度为8-15nm。
7.根据权利要求1所述的一种免去边可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二氮化硅膜层的厚度为40-50nm。
8.根据权利要求1所述的一种免去边可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述氧化锆膜层的厚度为5-10nm。
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