[实用新型]用于光学处理系统的光学头

说明书

本实用新型涉及用于光学处理系统的光学头。该光学头包括：照明结构，其用于对需要沉积的目标进行照明；相机，其用于获取目标的至少一个图像；可移动载台，其经调适以用于载运供体元件，供体元件提供用于沉积的材料；激光器，其具有激光输出，激光输出至少照在供体元件上；可移除式光束扩展器，其用于调整激光输出；及控制电路，其连接到相机、可移动载台、激光器及可移除式光束扩展器以用于控制其操作。

本申请是申请号为201720203642.0、申请日为2017年3月3日、实用新型名称为“用于光学处理系统的光学头及底盘”的实用新型专利申请的分案申请。

技术领域

本实用新型一般来说涉及光学处理系统，且更明确地说，涉及光学沉积及/或烧蚀系统。

背景技术

此项技术中已知各种类型的光学沉积及烧蚀系统。

实用新型内容

本文中以下所描述的本实用新型的实施例提供一种用于在特定沉积或烧蚀系统中进行光学处理的系统，所述系统提供比现有技术系统更准确、可靠、经济且容易的操作。

因此，根据本实用新型的一实施例，提供一种用于光学处理系统的底盘，所述底盘包含经调适以用于在其上放置需要沉积的目标的工作台；及以下各项中的至少一者：(i)装载站，其位于所述工作台的前部上以用于在其处装载供体元件，所述供体元件提供用于所述沉积的材料；及(ii)多个可调整销，其沿着所述工作台的外围而定位且将所述目标围住；以及处置箱，其经调适以用于在利用所述供体元件之后自动接纳所述供体元件。

在本实用新型的一实施例中，所述工作台包含具有第一延伸位置及第二缩回位置的真空工作台，所述真空工作台可在所述第一延伸位置与所述第二缩回位置之间滑动。

在本实用新型的一实施例中，所述多个可调整销在所述真空工作台处于所述第一延伸位置时呈经升高配置，且在所述真空工作台沿着所述第一延伸位置与所述第二缩回位置之间的路径时呈经降低配置。

在本实用新型的一实施例中，所述装载站位于所述真空工作台的前部部分上。

另外或另一选择为，所述装载站包含用于在其中插入所述供体元件的腔室以及用于将所述供体元件以磁性方式紧固在所述装载站中的一组磁体。

此外，另外或另一选择为，所述装载站包含用于以光学方式检测所述供体元件的至少一个光学传感器。

另外或另一选择为，所述处置箱在所述真空工作台处于所述第一延伸位置时位于所述真空工作台后方且在所述真空工作台处于所述第二缩回位置时位于所述真空工作台下方。

此外，另外或另一选择为，所述处置箱还包含用于感测所述处置箱的存在及定位的传感器。

此外，根据本实用新型的一实施例，所述底盘还包含位于所述工作台上的大量校准元件。

在所揭示实施例中，所述底盘还可包含附接到所述工作台的光学诊断设备。

此外，根据本实用新型的一实施例，工作台包含具有第一及第二纵向边缘以及第三及第四横向边缘的大体矩形上表面，其中所述第一到第四边缘界定经调适以用于在其上放置所述目标的内作用区域。

另外或另一选择为，多个可调整销包含：第一组四个柱，其被定位成相对于所述第二纵向边缘凹进且围绕所述作用区域的前边缘；及第二组四个柱，其被定位成相对于所述第四横向边缘凹进且围绕所述作用区域的侧边。

此外，根据本实用新型的一实施例，所述装载站位于所述表面的邻近于所述第二纵向边缘与所述第三横向边缘的交叉处的前拐角处，所述装载站包含矩形元件，所述矩形元件具有由一组经升高边缘限界的第一凹入部分及与所述第一凹入部分相连的第二凹入部分。