[实用新型]显像洗蚀液喷洒旋转装置有效
申请号: | 201721673877.2 | 申请日: | 2017-12-05 |
公开(公告)号: | CN207573717U | 公开(公告)日: | 2018-07-03 |
发明(设计)人: | 吕信达 | 申请(专利权)人: | 登泰电路机械股份有限公司 |
主分类号: | H05K3/00 | 分类号: | H05K3/00 |
代理公司: | 北京申翔知识产权代理有限公司 11214 | 代理人: | 黄超;周春发 |
地址: | 中国台湾桃园*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显像 驱动旋转组件 水液管 喷洒 旋转装置 支架 本实用新型 电路板工艺 电路板 传送过程 供应系统 控制系统 同步带动 支架安装 可透过 连接口 水液 | ||
本实用新型的显像洗蚀液喷洒旋转装置,基本上包括:至少一支架、至少一水液管,以及一驱动旋转组件;可透过支架安装于显像洗蚀设备的机台上,另透过支架的水液连接口连接显像洗蚀设备的洗蚀液供应系统,另由驱动旋转组件连接显像洗蚀设备的控制系统;必要时,可由驱动旋转组件带动水液管旋转,达到调整洗蚀液喷洒均匀的目的,甚至可在电路板传送过程中同步带动水液管旋转,以相对积极、可靠的手段提升电路板工艺品质且更能使线路显像洗蚀更均匀,降低过度显像及过度洗蚀。
技术领域
本实用新型与电路板显像洗蚀设备有关,特别是指一种可依照加工需求变换洗蚀液喷洒角度,甚至可在电路板传送过程中配合旋转的显像洗蚀液喷洒旋转装置。
背景技术
在电路板的湿式制程中,普遍存在不同类型的蚀刻问题;例如,传统洗蚀作业,由于采用水平方式将电路板传送通过显像洗蚀设备,但难免会因为蚀刻液积留在电路板顶面的时间过久,进而造成过量蚀刻或微尘污染等问题。
如图1所示,为习用显像洗蚀设备的洗蚀液喷洒组件使用配置图,其透过将电路板10以垂直状态传送通过显像洗蚀设备20的方式,降低蚀刻液积留在电路板顶面时间过久的现象;以及,透过在显像洗蚀设备20的作业区域安装壳罩,配合在壳罩侧面设置电路板信道的方式,降低微尘污染的现象。
类似习用显像洗蚀设备基本上在其作业区域设置数量不等的洗蚀液喷洒组件21、22,且通常将复数组用以产生直立洗蚀液的喷洒组件21排列合并成一个作业区段,另将复数组用以产生横向洗蚀液的喷洒组件22合并成另一个作业区段的方式维持基本的覆盖率。
然而,由于其用以产生直立洗蚀液的喷洒组件21及用以产生横向洗蚀液的喷洒组件22大多固定设置于显像洗蚀设备20上,不但无法配合加工需求变换角度或旋转,且在电路板10通过用以产生直立洗蚀液的喷洒组件21所属作业区段而尚未进入用以产生横向洗蚀液的喷洒组件22所属作业区段的这段时间,其作用于电路板10的洗蚀液覆盖率仍未达预期,因此还有进一步的改良空间。
实用新型内容
本实用新型所解决的技术问题即在于提供一种可依照加工需求变换洗蚀液喷洒角度,甚至可在电路板传送过程中配合旋转,以相对积极、可靠的手段提升电路板工艺品质且更能使线路显像洗蚀更均匀,降低过度显像及过度洗蚀的显像洗蚀液喷洒旋转装置。
本实用新型所采用的技术手段如下所述。
本实用新型的显像洗蚀液喷洒旋转装置,包括:至少一支架、至少一水液管,以及一驱动旋转组件;其中:该至少一支架,具有一供盛接水液的水道空间,另设有至少一与该水道空间相通的水液连接口;该至少一水液管,呈与该至少一支架的水道空间相通的型态轴设于该至少一支架上,该至少一水液管上且设有复数水液喷头;该驱动旋转组件,以供驱动该至少一水液管旋转的型态与该至少一水液管传动联结。
本实用新型的显像洗蚀液喷洒旋转装置,可由驱动旋转组件带动水液管旋转,达到调整洗蚀液喷洒角度的目的,甚至可在电路板传送过程中同步带动水液管旋转,以相对积极、可靠的手段提升电路板工艺品质且更能使线路显像洗蚀更均匀,降低过度显像及过度洗蚀。
依据上述结构特征,该显像洗蚀液喷洒旋转装置包括两个概呈平行配置的支架,各该支架上各自轴设一水液管,各该水液管且与该驱动旋转组件传动联结。
依据上述结构特征,该驱动旋转组件具有一马达、一由该马达驱动旋转的传动轴,于该传动轴上设有一随该传动轴旋转的第一传动件,于各该水液管上各自设有一与该第一传动件构成传动联结的第二传动件,其中马达可以为减速马达或伺服马达。
依据上述结构特征,该显像洗蚀液喷洒旋转装置包括两个概呈平行配置的支架,各该支架上各自轴设一水液管,各该水液管且与该驱动旋转组件传动联结;该驱动旋转组件具有一马达、一由该马达驱动旋转的传动轴,于该传动轴上设有一随该传动轴旋转的第一传动件,于各该水液管上各自设有一与该第一传动件构成传动联结的第二传动件。
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