[实用新型]一种磁流变抛光液离线匀化装置

说明书

本实用新型公开了一种磁流变抛光液离线匀化装置，包括防护罩、支撑板，以及安装在支撑板上的电机、电机控制器、电机控制器挂架、传送带Ⅰ和双主传动匀化组。双主传动匀化组形成方形空间并托起混合瓶。该离线匀化装置可以拓展为多组双主传动匀化组。使用时，将盛有磁流变抛光液的混合瓶放置于双主传动匀化组上，调节电机速度，运行电机，电机转动依次带动传送带Ⅰ、双主传动匀化组。辊轮通过橡胶管与混合瓶的静摩擦双主传动带动混合瓶回转，从而均匀匀化混合瓶内的磁流变抛光液。该离线匀化装置具有主动传动功能，摩擦力大、传送力矩大，辊轮不空转、混合瓶不打滑。该离线匀化装置还可用于磁流变抛光液的离线匀化以及其它抛光液的匀化。

技术领域

本实用新型属于光学元件超精密加工领域，具体涉及一种磁流变抛光液离线匀化装置。

背景技术

光技术被誉为光学制造界的革命性技术，它利用磁流变抛光液的可控流变性实现对工件材料的精确微量确定性去除，能高效率获得数十纳米以下高精度型面、纳米级表面质量且近无亚表面缺陷，很好地满足航天、航空和国防等领域光学元件的加工要求。

目前在磁流变抛光液的配置过程中，需要对磁流变抛光液的各种组份进行混合，要求各组份混合均匀，不得有颗粒以及沉淀存在，而且需要设备长时间可靠、安全运行。在现有的发明以及使用的设备中，美国QED公司采用电机带动辊轮转动，另外一个辊轮被动转动，电机与辊轮在一个平面，而且其运行部件没有采取安全防护措施，两辊轮前后左右没有防止混合瓶滑落的挡块。在磁流变抛光液的的配置过程中的混合以及离线匀化时，经常由于磁流变抛光液过重或者中心偏心、辊轮力矩不足等原因，辊轮空转，混合瓶打滑，长期运行导致磁流变抛光液沉降、团聚而导致其性能不能满足要求，致使磁流变抛光液报废。同时由于混合瓶两侧没有挡板，混合瓶在回转中跑偏使混合瓶从辊轮上滚落下来，致使混合瓶抛光液沉降、报废。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种磁流变抛光液离线匀化装置。

本实用新型的磁流变抛光液离线匀化装置包括防护罩、支撑板以及安装在支撑板上的支脚、电机、电机控制器挂架、电机控制器、双主传动匀化组以及安装在电机和双主传动匀化组之间的传送带Ⅰ；

所述的防护罩为方形中空结构，包覆在支撑板的外周，露出混合瓶、辊轮Ⅰ、辊轮Ⅱ、左挡块、右挡块、前挡块、后挡块；

所述的支撑板为方形平板，支脚安装在支撑板下方的四个角上，支撑离线匀化装置；

所述的支撑板下方安装有电机、电机控制器挂架、电机控制器，电机和电机控制器挂架固定在支撑板下表面上，电机控制器固定在电机控制器挂架上，电机控制器控制电机运动，电机控制器操作面板位于离线匀化装置正面以方便人员操作；

所述的支撑板上方安装有双主传动匀化组，双主传动匀化组包括辊轮Ⅰ、辊轮Ⅱ、传送带Ⅱ、前挡块、后挡块、左挡块、右挡块，所述的前挡块、后挡块、左挡块、右挡块安装在支撑板上表面的四边，形成一个限制混合瓶移动的方形空间，所述的辊轮Ⅰ、辊轮Ⅱ平行放置在方形空间中并托起混合瓶；

所述的混合瓶的轴线与辊轮Ⅰ、辊轮Ⅱ的轴线平行，辊轮Ⅰ、辊轮Ⅱ通过传送带Ⅱ连接，电机转动依次带动传送带Ⅰ、辊轮Ⅰ、传送带Ⅱ、辊轮Ⅱ）转动，混合瓶在辊轮Ⅰ、辊轮Ⅱ之间回转。

所述的双主传动匀化组包括多组双主传动匀化组，每组双主传动匀化组均平行安装在支撑板的上表面，各组之间保留间距并通过传送带依次连接并传递。

所述的辊轮轴表面套装橡胶管，橡胶管均匀分布在辊轮轴上，橡胶管与辊轮轴过盈配合。

所述的电机的调速范围为200~800rpm。

所述的电机控制器通过电机调速手柄控制电机转速，通过显示屏显示电机转速。