[实用新型]一种减少蒸镀速率波动的线性蒸镀源喷嘴结构

说明书

本实用新型提供一种减少蒸镀速率波动的线性蒸镀源喷嘴结构，在线性蒸镀源喷嘴结构的上方设置有低温多晶硅基板，在线性蒸镀源喷嘴结构的侧方设置有石英晶振片，线性蒸镀源喷嘴结构由至少八个喷嘴排列而成，其中位于中间的喷嘴为直立喷嘴，直立喷嘴的喷嘴口朝向所述低温多晶硅基板；位于两侧的至少各一个喷嘴为向外侧倾斜的倾斜喷嘴，倾斜喷嘴的喷嘴口朝向所述石英晶振片。本实用新型中石英晶振片只通过专用的两侧倾斜喷嘴来监控材料的实际蒸发速率，与用于将材料蒸发到LTPS基板的直立喷嘴互不干涉，从而减少因为中间用于LTPS基板蒸镀的直立圆柱喷嘴堵孔以及真空波动导致线性蒸发源扫描过程中的速率波动，同时有助于改善蒸镀膜层的膜厚均匀性。

技术领域

本实用新型涉及有机发光二极管显示技术领域，具体涉及一种减少蒸镀速率波动的线性蒸镀源喷嘴结构。

背景技术

有机电激发光器件(Organic Light-Emitting Diode,OLED)由于同时具有独特的自发光性、广视角、高对比、高亮度、低功耗、响应速度快和面板厚度薄等优点，已成为目前平面显示器行业最热门的技术之一。OLED器件的核心部分由阳极金属膜层、有机材料膜层以及阴极金属膜层构成。通常，有机材料膜层蒸镀使用的蒸发源是线性蒸发源。有机材料在线性蒸发源的坩埚中通过电阻丝加热，经过内板(Inner Plate)和喷嘴(Nozzle)后均匀地蒸发出来。目前使用的线性源喷嘴大多采用的是直立型的圆柱型喷嘴，石英晶振片监测的速率是其中的一个喷嘴(近坩埚左侧)喷出的材料的蒸发速率。有机材料从直立型圆柱喷嘴蒸出基本蒸镀到LTPS基板上，只有少部分蒸镀到石英晶振片上被晶振监测到。在线性源蒸镀扫描过程中，由于一些有机材料是蓬松型材料，时间长容易在喷嘴处聚集堵塞喷嘴，加之线性源蒸镀扫描过程中易出现真空波动，这些因素都会导致石英晶振片监测的蒸镀速率容易出现波动。蒸镀速率一旦出现波动，需要长时间才能稳定，这时生产短时间将会停止，影响生产节拍。此外，蒸镀速率的波动也会导致有机材料层膜厚均匀性变差进而使器件的性能受到较大的影响。

实用新型内容

本实用新型提供一种减少蒸镀速率波动的线性蒸镀源喷嘴结构，解决了减少线性蒸发源扫描过程中的速率波动，同时改善蒸镀有机膜层的膜厚均匀性的技术问题。

为了解决上述技术问题，本实用新型所采取的技术方案为：

本实用新型提供一种减少蒸镀速率波动的线性蒸镀源喷嘴结构，在所述线性蒸镀源喷嘴结构的上方设置有低温多晶硅基板，在所述线性蒸镀源喷嘴结构的侧方设置有石英晶振片，所述线性蒸镀源喷嘴结构由至少八个喷嘴排列而成，其中位于中间的喷嘴为直立喷嘴，所述直立喷嘴的喷嘴口朝向所述低温多晶硅基板；位于两侧的至少各一个喷嘴为向外侧倾斜的倾斜喷嘴，所述倾斜喷嘴的喷嘴口朝向所述石英晶振片。

进一步地，所述倾斜喷嘴的倾斜角度为10～45°。

更进一步地，所述倾斜喷嘴的倾斜角度根据倾斜喷嘴口与所述石英晶振片的位置对应关系设置。

进一步地，所述直立喷嘴为圆柱体喷嘴。

较佳地，所述线性蒸镀源喷嘴结构包括六至八个直立喷嘴和位于所述直立喷嘴两侧的各一个倾斜喷嘴。

进一步地，从所述直立喷嘴和倾斜喷嘴中喷出的材料为蓬松型有机材料。

本实用新型将线性蒸镀源喷嘴外围的喷嘴设置为向外倾斜一定角度的结构，使得中间用于LTPS基板蒸镀用直立圆柱喷嘴喷出的材料不蒸镀到石英晶振片上，只进入LTPS基板蒸镀范围(基板蒸镀作用)；两侧倾斜的监测速率用喷嘴蒸出的材料蒸镀到石英晶振片上(监测速率作用)。这样，石英晶振片只通过专用的两侧倾斜喷嘴来监控材料的实际蒸发速率，与用于将材料蒸发到LTPS基板的直立喷嘴互不干涉，从而减少因为中间用于LTPS基板蒸镀的直立圆柱喷嘴堵孔以及真空波动导致线性蒸发源扫描过程中的速率波动，同时有助于改善蒸镀膜层的膜厚均匀性。

附图说明