[实用新型]一种LPCVD真空加热腔室

权利要求书

1.一种LPCVD真空加热腔室，其特征在于，所述加热腔室(1)内自上而下顺次设有加热装置(2)、均热板(3)和玻璃基板(4)，所述加热腔室(1)的腔壁上设有热量屏蔽装置(5)。

2.根据权利要求1所述的LPCVD真空加热腔室，其特征在于，所述热量屏蔽装置(5)包括漫反射板(6)和镜面反射板(7)，所述镜面反射板(7)设于所述漫反射板(6)与所述加热腔室(1)的腔壁之间。

3.根据权利要求2所述的LPCVD真空加热腔室，其特征在于，所述漫反射板(6)为弯折板，所述镜面反射板(7)为平板。

4.根据权利要求2所述的LPCVD真空加热腔室，其特征在于，所述漫反射板(6)为波纹板。

5.根据权利要求4所述的LPCVD真空加热腔室，其特征在于，所述波纹板包括顺次连接的弧形凸板(8)，所述弧形凸板(8)朝向所述玻璃基板(4)的方向凸起。

6.根据权利要求1所述的LPCVD真空加热腔室，其特征在于，所述热量屏蔽装置(5)设置在所述加热腔室(1)的底壁和侧壁上。

7.根据权利要求2所述的LPCVD真空加热腔室，其特征在于，所述漫反射板(6)与所述镜面反射板(7)之间设有隔热材料。

8.根据权利要求1所述的LPCVD真空加热腔室，其特征在于，所述加热装置(2)为加热灯管，所述加热灯管均匀设置在所述均热板(3)的上方。

9.根据权利要求1所述的LPCVD真空加热腔室，其特征在于，所述加热腔室(1)内还设有温度传感器，所述温度传感器与所述玻璃基板(4)连接。

10.根据权利要求1所述的LPCVD真空加热腔室，其特征在于，所述加热腔室(1)的侧壁上设有导轨，所述玻璃基板(4)的边缘设有与所述导轨匹配的滑块，所述滑块与所述导轨滑动连接。