[实用新型]电子级氨水的制造系统

说明书

本实用新型提供一种电子级氨水的制造系统，包含：混合槽，用以混合氨水溶液(NH₄OH)与强碱以获得混合液体，氨水溶液为不饱和溶液；气提单元，设置于混合槽下游且包含换热单元以加热混合溶液及气提塔以混合氮气与加热后的混合液体进行气提，以获得混合气体；第一吸收单元，设置于气提单元下游且包含第一冷凝单元以降温混合气体及第一吸收塔以混合饱和氨水与降温后的混合气体进行吸提，以获得净化气体；以及第二吸收单元，设置于第一吸收单元下游且包含第二冷凝单元以降温超纯水及第二吸收塔以混合降温后的超纯水与净化气体，以获得电子级氨水。

技术领域

本实用新型是有关一种电子级氨水的制造系统，特别是有关于一种使用不饱和氨水产生电子级氨水的制造系统。

背景技术

在现今的半导体工业中，IC制造的过程所进行的蚀刻或清洗工艺常会产生大量的含氨废液，常见的含氨废液处理方式是使用气提脱除的方式，将硫酸吸附于含氨废水以转换为硫酸铵的液态废液，接着再将其干燥而进行后续的应用。然而，在上述使用硫酸为吸收液的处理方法中，不仅需要考虑硫酸铵副产物的后续处理，且因其为工业级产物，并无法作为农业用的肥料，因此在后续的应用另有所限制。因此，若能提供一种更加简化的氨水废液处理方法，因可避免多余的副产物处理步骤，进而降低整体废液处理成本，亦能对于半导体工业污染防治有所裨益。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种电子级氨水的制造系统，其包含：混合槽，用以混合氨水溶液(NH₄OH)与强碱以获得混合液体，其中，氨水溶液为不饱和溶液；气提单元，设置于混合槽的下游且包含换热单元及气提塔，换热单元用以加热混合液体，气提塔混合氮气与加热后的混合液体进行气提以获得混合气体；第一吸收单元，设置于气提单元的下游且包含第一冷凝单元及第一吸收塔，第一冷凝单元用以降温混合气体，第一吸收塔混合饱和氨水与降温后的混合气体进行吸提以获得净化气体；以及第二吸收单元，设置于第一吸收单元的下游且包含第二冷凝单元及第二吸收塔，第二冷凝单元用以降温一超纯水，第二吸收塔混合降温后的超纯水与净化气体以获得电子级氨水。

较佳地，氨水溶液的浓度可为20％-30％。

较佳地，饱和氨水的温度可为10℃-30℃，且压力可为1-5atm。

较佳地，第一冷凝单元的冷凝温度可为25-40℃，而第二冷凝单元的冷凝温度可为7-20℃。

较佳地，电子级氨水的金属离子浓度可约为1-10ppt。

较佳地，混合液体的pH值可为10-12。

本实用新型的另一目的是提供一种电子级氨水的制造系统，其包含：混合槽，用以混合氨水溶液(NH₄OH)与强碱以获得混合液体，其中，氨水溶液为不饱和溶液；气提单元，设置于混合槽的下游且包含换热单元及气提塔，换热单元用以加热混合液体，气提塔混合氮气与加热后的混合液体进行气提以获得混合气体；纯化单元，设置于气提单元的下游且包含第一冷凝单元及脱氧膜，第一冷凝单元用以降温混合气体，降温后的混合气体通过脱氧膜以获得净化气体；以及吸收单元，设置于纯化单元的下游且包含第二冷凝单元及吸收塔，第二冷凝单元用以降温超纯水，吸收塔混合降温后超纯水与净化气体以获得电子级氨水。

较佳地，氨水溶液的浓度可为20％-30％。

较佳地，饱和氨水的温度可为10℃-30℃，且压力可为1-5atm。

较佳地，第一冷凝单元的冷凝温度可为25-40℃，而第二冷凝单元的冷凝温度可为7-20℃。

较佳地，电子级氨水的金属离子浓度可约为1-10ppt。

较佳地，混合液体的pH值可为10-12。

以下通过具体实施例配合附图详加说明，当更容易了解本实用新型的目的、技术内容、特点及其所达成的功效。