[实用新型]一种浸渍机构及浸渍装置

权利要求书

1.一种用于容纳待浸渍工件的浸渍机构(1)，其特征在于，包括用于容纳工件的箱体(11)，以及设置在所述箱体(11)上的盖板(12)，所述箱体(11)、盖板(12)分别设有一个或多个通孔。

2.根据权利要求1所述的浸渍机构，其特征在于，所述箱体(11)与所述盖板(12)上分别设有多个通孔，所述多个通孔均匀分布。

3.根据权利要求2所述的浸渍机构，其特征在于，还包括设置在所述盖板(12)上，用于使所述盖板(12)固定在所述箱体(11)上的盖板固定机构(13)。

4.根据权利要求3所述的浸渍机构，其特征在于，还设有与所述箱体(11)相连的支架(14)，所述支架(14)包括可拆卸连接的立柱与固定板，所述盖板固定机构(13)具体为套设在所述支架(14)立柱上的套筒，所述套筒一端与所述支架(14)的固定板接触，另一端与所述盖板(12)接触。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的浸渍机构，其特征在于，所述箱体(11)内可容纳多个工件，将多个工件叠放，相邻两层工件之间设有用于分隔的分隔部件(15)。

6.根据权利要求5所述的浸渍机构，其特征在于，所述分隔部件(15)上设有一个或多个通孔，且所述分隔部件(15)上设有凸块，所述凸块用于支撑工件，使工件与所述分隔部件(15)间存在间隙。

7.根据权利要求5所述的浸渍机构，其特征在于，所述相邻两层工件之间设有至少两个分隔部件(15)。

8.根据权利要求6-7中任一项所述的浸渍机构，其特征在于，所述箱体(11)、盖板(12)、盖板固定机构(13)、分隔部件(15)分别由石墨制成。

9.一种浸渍装置，其特征在于，包括浸渍炉、加热炉、真空部件、惰性气源、控压部件，

所述浸渍炉包括权利要求1-8中任一项所述的浸渍机构(1)，还包括盛液锅(2)、移动机构，所述盛液锅(2)用于容纳浸渍介质，所述移动机构用于移动所述浸渍机构(1)和/或所述盛液锅(2)，以改变所述浸渍机构(1)与所述盛液锅(2)的相对位置；

所述加热炉用于加热所述浸渍炉中的盛液锅(2)；

所述真空部件用于向所述浸渍炉提供真空环境；

所述惰性气源用于向所述浸渍炉内充入惰性气体；

所述控压部件用于控制所述浸渍炉内压力。

10.根据权利要求9所述的浸渍装置，其特征在于，所述浸渍炉外还设有冷却部件。