[实用新型]一种带防液滴喷溅格栅的热蒸发装置有效

专利信息
申请号: 201721736330.2 申请日: 2017-12-13
公开(公告)号: CN208136329U 公开(公告)日: 2018-11-23
发明(设计)人: 张撷秋;刘壮;杨世航;钟国华;黄俏俏;崔骏;李霖 申请(专利权)人: 深圳先进技术研究院
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/24
代理公司: 北京市诚辉律师事务所 11430 代理人: 范盈
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 格栅 喷管 蒸发材料 液滴 坩埚 热蒸发装置 支撑框架 坩埚内壁 防液滴 阻挡 厚度均匀性 热蒸发镀膜 顶端端口 镀膜表面 镀膜材料 镀膜工艺 紧密贴合 倾斜挡板 有效减少 良品率 外壁 加热 相通 容纳
【说明书】:

一种带防液滴喷溅格栅的热蒸发装置,包括:蒸发材料;坩埚,所述坩埚容纳待加热的所述蒸发材料;喷管,所述喷管与坩埚的顶端端口相通;格栅,所述格栅放置在坩埚内壁,且位于蒸发材料上方,所述格栅具有阻挡喷溅液滴直线运动至喷管的倾斜挡板。所述格栅还包括支撑框架,所述支撑框架的外壁与所述坩埚内壁紧密贴合,且形状相同。在热蒸发镀膜工艺中,格栅可顺利通过蒸气,且阻挡大部分喷溅液滴,有效减少喷溅液滴到达镀膜表面,提高镀膜材料的厚度均匀性和化学组分一致性,提高镀膜工艺的良品率。

技术领域

本实用新型涉及真空热蒸发镀膜领域,具体涉及一种带防液滴喷溅格栅的热蒸发装置。

背景技术

蒸发镀膜是真空物理气相沉积镀膜的技术之一。蒸发镀膜装备通常分为真空腔体、真空获得系统、热蒸发系统、电控系统构成。热蒸发系统由蒸发容器(蒸发坩埚、蒸发舟等),电阻丝加热器或其他加热装置,热屏蔽系统,加热温控系统构成。工艺过程为:蒸发原料置于坩埚中,在真空环境中利用加热使镀膜原料发生固液气相变过程,蒸发原料被加热至熔化后产生蒸发气体或以升华模式由固态直接产生蒸发气体,蒸发气体在真空腔体中沉积在衬底表面形成薄膜材料。通过蒸发工艺可以形成单质薄膜,也可以通过化学反应形成化合物薄膜。在生产实践中,根据热蒸发源的结构分为点蒸发源和线蒸发源等。

线性热蒸发源常用于连续生产型镀膜设备,和点状热蒸发源相比,具有镀膜面积大、均匀性高、材料利用率高的优点,但线性蒸发源结构复杂,通常包含坩埚、坩埚加热器、喷管、喷管加热器、热屏蔽结构、喷嘴等等。其工作原理为蒸发源材料在坩埚中被加热,所产生的蒸发气体经过喷管导流后从喷嘴处喷出,其中喷管和喷嘴也需要加热,避免蒸发气体再次凝结。在实际过程中,材料内部产生的蒸发气体在逸出材料表面的过程中,会携带出一定的液滴,大的液滴因为重力会坠落回蒸发材料表面或粘附于坩埚内壁,但部分小液滴会伴随蒸发气体经过喷管后从喷嘴逸出,并沉积于衬底,小液滴会伴随蒸发气体经过喷管后从喷嘴逸出,并沉积于衬底的现象被称为液滴喷溅,导致薄膜材料局部的厚度和化学组分异常,影响薄膜材料的厚度均匀性和化学组分一致性,导致镀膜废品的产生。

此实用新型目的为解决上述液滴喷溅问题,采用热蒸发源的防液滴喷溅格栅,用于阻挡坩埚中喷溅液滴到达喷管,并保持蒸发气体的正常通过。

发明内容

本实用新型的一种带防液滴喷溅格栅的热蒸发装置,包括:

蒸发材料

坩埚,所述坩埚容纳待加热的所述蒸发材料;

喷管,所述喷管与坩埚的顶端端口相通;

格栅,所述格栅放置在坩埚内壁,且位于蒸发材料上方,所述格栅具有阻挡喷溅液滴直线运动至喷管的倾斜挡板。

优选地,所述格栅还包括:支撑框架,所述支撑框架的外壁与所述坩埚内壁紧密贴合,且形状相同。

优选地,所述倾斜挡板平行设置且为多个,且每个所述的倾斜挡板的两端支撑在所述支撑框架上。

优选地,所述支撑框架外壁的水平横截面为椭圆形或四边形。

优选地,所述支撑框架外壁的水平横截面为圆形。

优选地,所述格栅采用烧结、机械或增材制造加工。

优选地,所述格栅材料为铜、金、银、钽、钼、钨、石墨、石英、氧化铝、碳纤维、氮化硼或碳化硅。

优选地,所述倾斜挡板具有多层。

优选地,所述同一层的倾斜挡板间距相同。

优选地,所述格栅具有多个。

优选地,所述格栅具有两个,且上下相邻对称放置。

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