[实用新型]线性蒸发源及连续式蒸镀设备有效
申请号: | 201721742630.1 | 申请日: | 2017-12-14 |
公开(公告)号: | CN207727135U | 公开(公告)日: | 2018-08-14 |
发明(设计)人: | 杨世航;刘壮;张撷秋;崔骏;李霖 | 申请(专利权)人: | 深圳先进技术研究院 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/56 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人: | 孙伟峰 |
地址: | 518055 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 线性蒸发源 喷嘴 喷射管 蒸镀 传送机构 蒸镀设备 管本体 连续式 蒸发 本实用新型 真空镀膜腔 坩埚 连通 长度方向排列 加热器 大面积喷涂 第一加热器 加热器控制 真空蒸镀腔 加热坩埚 连续移动 蒸发量 加热 传输 | ||
1.一种线性蒸发源,其特征在于,包括:
坩埚(10),用于容纳材料并对所述材料进行第一次蒸发;
第一加热器(20),用于加热所述坩埚(10);
喷射管(30),所述喷射管(30)与所述坩埚(10)连通,用于对所述材料进行第二次蒸发,且所述喷射管(30)包括管本体(32)以及若干个喷嘴(31),所述若干个喷嘴(31)沿所述管本体(32)的长度方向排列于所述管本体(32)上,所述喷嘴(31)用于将经过第二次蒸发的所述材料喷出;
第二加热器(40),用于对所述喷射管(30)进行加热。
2.根据权利要求1所述的线性蒸发源,其特征在于,所述坩埚(10)包括坩埚本体和坩埚盖,所述坩埚本体的一端开设有敞口,所述坩埚盖盖设于所述敞口上,所述坩埚盖开设有通孔,所述管本体(32)为一端封闭且另一端开口的圆柱体管道,所述管本体(32)的开口与所述坩埚盖的通孔对接。
3.根据权利要求2所述的线性蒸发源,其特征在于,所述线性蒸发源还包括一端封闭且另一端开口的第一屏蔽罩(50),所述坩埚(10)设置于所述第一屏蔽罩(50)内,所述第一加热器(20)设置于所述坩埚(10)与所述第一屏蔽罩(50)之间。
4.根据权利要求2所述的线性蒸发源,其特征在于,所述线性蒸发源还包括第二屏蔽罩(60),所述第二屏蔽罩(60)的两端开口且沿长度方向上开设有第一长槽(61),所述管本体(32)设置于所述第二屏蔽罩(60)内,且所述喷嘴(31)伸出于所述第一长槽(61)外,所述第二加热器(40)设置于所述第二屏蔽罩(60)和所述管本体(32)之间。
5.根据权利要求4所述的线性蒸发源,其特征在于,所述线性蒸发源还包括第三屏蔽罩(70),所述第三屏蔽罩(70)的两端开口且沿长度方向上开设有第二长槽(71),所述第三屏蔽罩(70)套设于所述第二屏蔽罩(60)外,所述喷嘴(31)伸出于所述第二长槽(71)之外。
6.根据权利要求1所述的线性蒸发源,其特征在于,所述第一加热器(20)和/或所述第二加热器(40)为电阻式加热器。
7.根据权利要求1所述的线性蒸发源,其特征在于,若干个所述喷嘴(31)间隔设置且呈同一直线排列。
8.根据权利要求7所述的线性蒸发源,其特征在于,相邻两个所述喷嘴(31)的间距为10mm至100mm。
9.一种连续式蒸镀设备,其特征在于,包括若干个相互连通的真空镀膜腔(80)、传送机构(90)和权利要求1至8任一项所述的线性蒸发源,所述传送机构(90)用于传输待蒸镀样品(100),使得所述待蒸镀样品(100)在若干个所述真空镀膜腔(80)之间往复运动,所述线性蒸发源设置于所述真空镀膜腔(80)内,且所述喷嘴(31)朝向所述待蒸镀样品(100)。
10.根据权利要求9所述的连续式蒸镀设备,其特征在于,所述连续式蒸镀设备还包括设于所述真空镀膜腔(80)内的厚度检测仪(110),所述厚度检测仪(110)用于检测所述待蒸镀样品(100)的镀膜厚度。
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