[实用新型]一种多晶硅生产尾气中氯硅烷的回收系统有效

专利信息
申请号: 201721747593.3 申请日: 2017-12-14
公开(公告)号: CN207792717U 公开(公告)日: 2018-08-31
发明(设计)人: 杨刊;冯巩;孟昱良 申请(专利权)人: 河北东明中硅科技有限公司
主分类号: C01B33/107 分类号: C01B33/107
代理公司: 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 代理人: 贾凯
地址: 052360 河北省石*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 活性炭吸附器 多晶硅生产 变压吸附系统 尾气 本实用新型 回收系统 氯硅烷 第二过滤器 第一过滤器 废气缓冲罐 气体压缩机 过滤器 并列设置 回收处理 交替循环 尾气处理 冷凝器 淋洗塔 热源 废气
【说明书】:

实用新型公开了一种多晶硅生产尾气中氯硅烷的回收系统,包括废气缓冲罐、变压吸附系统、热源、冷凝器和废气淋洗塔;其中变压吸附系统包括气体压缩机、活性炭吸附器以及第一过滤器、第二过滤器和第三过滤器;所述活性炭吸附器包括三个并列设置的活性炭吸附器A、活性炭吸附器B和活性炭吸附器C。本实用新型通过三个活性炭吸附器的交替循环,能实现对多晶硅生产尾气的24小时不间断回收处理,大大提高尾气处理效率及整个工厂的多晶硅生产的速率。

技术领域

本实用新型涉及多晶硅生产领域,具体涉及一种多晶硅生产尾气中氯硅烷的回收系统。

背景技术

多晶硅工厂的尾气主要含有氮气、氢气、氯化氢、氯硅烷等,其含量较为复杂,即含有不凝气氮气、氢气、氯化氢;又含有富含酸性的氯硅烷。因此,怎样能有效的处理该部分废气,减少对周围环境的污染,成为刻不容缓需要解决的问题。

对于多晶硅工厂的尾气的处理通常采用活性炭进行吸附,其原理是:活性炭在高压力,低温度下能够吸附大分子,在低压力,高温度下能够释放大分子,再生吸附功能。利用活性炭的高压低温吸附——低压高温再生——低压降温——高压低温吸附,三个状态不断循环,来进行氯硅烷的吸附及回收。

目前市场上,通常只采用一个活性炭吸附器进行工作,这样活性炭吸附器需要分别进行高压低温吸附,之后再进行低压高温再生,以及低压降温处理,这样就存在很大的问题:当活性炭吸附器处于高压低温吸附时可以正常的吸收尾气,但当活性炭吸附器处于低压高温再生以及低压降温两个状态时,其不能对尾气进行吸收及处理,这样就大大降低了尾气吸收处理的效率,以至于导致整个多晶硅生产的速率。急需一套能够24小时不间断的多晶硅生产尾气回收处理装置。

实用新型内容

针对上述问题,本实用新型公开了一种多晶硅生产尾气中氯硅烷的回收系统,此系统通过三个活性炭吸附器的交替循环,能实现对多晶硅生产尾气的24小时不间断回收处理,大大提高尾气处理效率及整个工厂的多晶硅生产的速率。

为实现上述目的,本实用新型采用的技术方案为:一种多晶硅生产尾气中氯硅烷的回收系统,包括废气缓冲罐,变压吸附系统,为所述变压吸附系统提供热量的热源、与所述变压吸附系统相连通的冷凝器和与所述变压吸附系统相连通的废气淋洗塔;

所述废气缓冲罐上设有尾气进管和低压尾气出管,所述低压尾气出管与所述变压吸附系统相连通;

所述变压吸附系统包括与所述低压尾气出管相连通的气体压缩机,通过高压尾气出管与所述气体压缩机相连通的活性炭吸附器以及分别与所述活性炭吸附器相连通的第一过滤器、第二过滤器和第三过滤器;

所述活性炭吸附器包括三个并列设置的活性炭吸附器A、活性炭吸附器B和活性炭吸附器C,所述活性炭吸附器A顶部设有吸附器A上通气管,所述活性炭吸附器A底部设有吸附器A下通气管,所述活性炭吸附器A的侧壁上设有吸附器A导热油进管和吸附器A导热油出管,所述活性炭吸附器B顶部设有吸附器B上通气管,所述活性炭吸附器B底部设有吸附器B下通气管,所述活性炭吸附器B的侧壁上设有吸附器B导热油进管和吸附器B导热油出管,所述活性炭吸附器C顶部设有吸附器C上通气管,所述活性炭吸附器C底部设有吸附器C下通气管,所述活性炭吸附器C的侧壁上设有吸附器C导热油进管和吸附器C导热油出管;所述高压尾气出管分别与所述吸附器A 下通气管、吸附器B下通气管和吸附器C下通气管相连通,所述高压尾气出管上设有控制所述高压尾气出管与所述吸附器A下通气管通断的吸附器A尾气进阀、控制所述高压尾气出管与所述吸附器B下通气管通断的吸附器B尾气进阀和控制所述高压尾气出管与所述吸附器C下通气管通断的吸附器C尾气进阀;

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