[实用新型]用于清洗抛光垫的超声波清洗器

说明书

本实用新型公开了一种用于清洗抛光垫的超声波清洗器，包括超声波发生器、超声波换能器和清洗桶，所述超声波发生器置于所述清洗桶外，所述超声波换能器安装于所述清洗桶内并通过电缆与所述超声波发生器连接，所述超声波换能器的机械振动盘置于所述清洗桶内的底部，所述清洗桶上设有进水管和出水管，所述清洗桶内的水能够进入所述机械振动盘的下方。本实用新型将超声波清洗技术代替毛刷应用在抛光垫清洗当中，清洗效果好，清洗效率高，安全可靠，不仅能对抛光垫进行机械化的高效清洗且不会对抛光垫表面造成机械损伤而且能对类似抛光垫具有微孔表面的工件进行清洗。

技术领域

本实用新型涉及一种抛光垫清洗设备，尤其涉及一种用于清洗抛光垫的超声波清洗器。

背景技术

目前，化学机械抛光（CMP）广泛应用于衬底晶片和多层布线的层间平坦化加工中，同时现在很多光学加工中也使用了化学机械抛光的工艺。抛光垫是化学机械抛光系统的重要组成部分，其表面具有微孔结构，具有贮存抛光液并把抛光液均匀运送到工件的整个加工区域等作用。每一次抛光完成后都要对抛光垫进行清洗，否则存储在抛光垫上的残余抛光粉硬化后会对抛光垫的使用寿命和抛光效果产生很不良的影响。

抛光垫的传统清洗方式是：利用抛光垫毛刷盘进行抛光垫清洗，比如在半导体里领域；或者用手持式毛刷进行抛光垫清洗，比如在光学加工领域。这两种传统清洗方式的本质都是用毛刷进行抛光垫清洗，其缺点如下：

1、由于刷毛之间有间隔，刷毛长度固定且变形不易，所以用毛刷对表面具有微气孔结构的抛光垫进行清洗是不彻底的；

2、同时毛刷直接和抛光垫接触，容易对抛光垫表面造成损伤；

3、人工清洗，费时费力，效率不高。

实用新型内容

本实用新型的目的就在于为了解决上述问题而提供一种不会损伤抛光垫、清洗彻底、效率高的用于清洗抛光垫的超声波清洗器。

本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的：

一种用于清洗抛光垫的超声波清洗器，包括超声波发生器、超声波换能器和清洗桶，所述超声波发生器置于所述清洗桶外，所述超声波换能器安装于所述清洗桶内并通过电缆与所述超声波发生器连接，所述超声波换能器的机械振动盘置于所述清洗桶内的底部，所述清洗桶上设有进水管和出水管，所述清洗桶内的水能够进入所述机械振动盘的下方。

上述设备中，超声波发生器又称超声波驱动电源、电子箱、超声波控制器，是大功率超声系统的重要组成部分，超声波发生器的作用是把市电转换成与超声波换能器相匹配的高频交流电信号，驱动超声波换能器工作；超声波换能器的功能是将从超声波发生器输入的电功率转换成机械功率（即超声波）再传递出去，而自身消耗很少的一部分功率，超声波换能器一般由外壳、匹配层、压电陶瓷圆盘、背衬、引出电缆和Cymbal阵列接收器组成，压电陶瓷圆盘采用厚度方向极化的PZT-5压电材料制成，Cymbal阵列接收器由8～16只Cymbal换能器、两个金属圆环和橡胶垫圈组成，上述超声波换能器的机械振动盘即为压电陶瓷圆盘；超声波发生器和超声波换能器共同组成机械振动波的产生装置，使机械振动盘下方的水产生高频振动，实现对抛光垫的高效清洗；清洗桶用于安装超声波换能器，同时通过进水管和出水管实现引水、排水以达到清除抛光粉的功能。

为了实现机械振动盘的高度可调从而调节机械振动盘与抛光垫之间的距离以根据抛光垫状态实现最佳的清洗效果，所述用于清洗抛光垫的超声波清洗器还包括高度调节环，所述高度调节环的内壁设有内螺纹，所述清洗桶的下部外壁设有外螺纹，所述高度调节环套装于所述清洗桶的下部外并通过螺纹连接。这种结构使高度调节环的底部可以低于清洗桶的底部而起到支撑作用，从而实现机械振动盘与抛光垫即高度调节环底部之间的距离可调的目的（说明，使用时，清洗桶和高度调节环置于抛光垫的上方并可以移动，或者也可以移动抛光垫，以实现抛光垫的清洗）。