[实用新型]导热结构及加热蒸发组件

说明书

本实用新型公开了一种导热结构，包括若干根导热管，每根所述导热管为内部中空且具有开口的管状体，所述若干根导热管的外壁相互贴合固定，并且贴合在一起的所述若干根导热管的径向方向的截面形状呈格栅形状。本实用新型还提供了一种加热蒸发组件，包括坩埚和上述的导热结构，所述导热结构的形状尺寸与所述坩埚匹配，所述导热结构设置于所述坩埚内，且所述导热结构最外围的所述导热管的外壁与所述坩埚的内壁接触。本实用新型所提供的一种导热结构及加热蒸发组件，利用多根导热管组成导热结构，形成多个子蒸发体，可减少子蒸发体之间的干扰，还可将临近加热源的坩埚壁热量快速传导坩埚内部，促进在非平衡态下的温度场均匀性。

技术领域

本实用新型涉及镀膜设备领域，更具体地说，涉及一种导热结构及加热蒸发组件。

背景技术

蒸发镀膜是真空PVD镀膜的技术之一。蒸发镀膜装备通常分为真空腔体、真空获得系统、热蒸发系统、电控系统构成。热蒸发系统包括蒸发容器(蒸发坩埚、蒸发舟等)，电阻丝加热器或其他加热装置，热屏蔽系统，加热温控系统构成。工艺过程将蒸发原料置于坩埚中，在真空环境中利用加热模式使镀膜原料发生固液气相变过程，蒸发原料被加热至熔点以上在液面处产生蒸发气体或以升华模式由固态直接产生蒸发气体，在坩埚开口处或喷嘴处喷出。蒸发气体在真空腔体中遇到相对低温衬底，沉积在衬底表面形成薄膜。通过蒸发工艺可以形成单质薄膜，也可以通过共蒸发实现化合物薄膜。在实践生产中，蒸发镀膜又可以分为点源热蒸发，线源热蒸发，电子束蒸发等。

在热蒸发镀膜工艺过程中，电阻式加热器通常置于坩埚的侧面或底部(线源蒸发还需在喷管、喷嘴周围布置加热器)。理论上虽然通过多层屏蔽可以使得热场内部属于一个近似密闭的热孤立系统，经过长时间预热可以使得蒸发料达到热平衡。但是由于蒸发工艺必然设定开口或喷嘴将蒸发原料气体导出加热区以喷发到达镀膜面，实现蒸发镀膜功能，因此实际工艺过程是非热平衡态，而在环境微扰条件下，原料内临近加热源的位置、远离加热源的位置、临近蒸发液面的位置之间会产生短时的温度不均匀。这种温度不均匀性容易导致沸腾现象，即溶液中的局部产生气泡，上升在液体表面破损，在此过程中易产生小液滴喷溅出坩埚或喷嘴结构。喷溅的液滴溅落在镀膜表面，会对镀膜面产生严重的品质伤害。这种喷溅现象在导热性差的液体蒸发工艺、大蒸发量工艺过程以及相对大的蒸发坩埚结构中更加严重。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题在于克服现有技术的不足，提供一种可保持温度均匀分布的导热结构。

为了实现上述的目的，本实用新型采用了如下的技术方案：

一种导热结构，包括若干根导热管，每根所述导热管为内部中空且具有开口的管状体，所述若干根导热管的外壁相互贴合固定，并且贴合固定连接在一起的所述若干根导热管的径向方向的截面形状呈格栅形状。

优选地，每根所述导热管的其中一端设有所述开口，所述若干根导热管的开设有所述开口的一端平齐设置。

优选地，每根所述导热管的两端均设有所述开口，且所述若干根导热管的两端分别平齐。

优选地，每根所述导热管的径向方向的截面形状为圆形、四边形或六边形中的任意一种。

优选地，所述导热管的材料为铜、金、银、钽、钼、钨、石墨、石英、氧化铝、碳纤维、热解氮化硼和碳化硅中的至少一种。

本实用新型还提供了一种加热蒸发组件，包括坩埚和任一种上述的导热结构，所述导热结构的形状尺寸与所述坩埚匹配，所述导热结构设置于所述坩埚内，且所述导热结构最外围的所述导热管的外壁与所述坩埚的内壁接触。

优选地，所述导热结构的高度为所述坩埚高度的三分之一至五分之四。

本实用新型所提供的一种导热结构及加热蒸发组件，利用多根导热管组成导热结构，形成多个子蒸发体，一方面可减少子蒸发体之间的干扰，另一方面，将使得临近加热源的坩埚壁热量快速传导坩埚内部，促进在非平衡态下的温度场均匀性。