[实用新型]一种旋转铬硅靶材有效
| 申请号： | 201721775065.9 | 申请日： | 2017-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN207904355U | 公开（公告）日： | 2018-09-25 |
| 发明（设计）人： | 秦国强;常金永;张志祥 | 申请（专利权）人： | 江阴恩特莱特镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 | 代理人： | 殷红梅 |
| 地址： | 214437 江苏省无锡市江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 背管 靶材 本实用新型 钎焊层 铬硅 变形 功能材料领域 安装方便 铬硅合金 内密封面 定位槽 内密封 法兰 积瘤 溅射 卡槽 起弧 省时 受力 | ||
【权利要求书】：
1.一种旋转铬硅靶材，其特征在于，包括背管（1），背管（1）外设有钎焊层（6），钎焊层（6）外设有铬硅合金管（5）；背管（1）的一端设有内密封面（2）和卡槽（3），背管（1）的另一端设有定位槽（7）和法兰（8）。
2.根据权利要求1所述的旋转铬硅靶材，其特征在于，所述背管（1）内壁的两端设有导向斜面（10）。
3.根据权利要求1所述的旋转铬硅靶材，其特征在于，所述铬硅合金管（5）的两端设有防裂倒角（4）和溅射过渡区（9）。
4.根据权利要求1所述的旋转铬硅靶材，其特征在于，所述铬硅合金管（5）中部的厚度为3-15毫米。
5.据权利要求1所述的旋转铬硅靶材，其特征在于，所述钎焊层（6）为铟层。
6.据权利要求1所述的旋转铬硅靶材，其特征在于，所述背管（1）为304不锈钢背管。
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