[实用新型]一种旋转铬硅靶材有效
申请号: | 201721775065.9 | 申请日: | 2017-12-18 |
公开(公告)号: | CN207904355U | 公开(公告)日: | 2018-09-25 |
发明(设计)人: | 秦国强;常金永;张志祥 | 申请(专利权)人: | 江阴恩特莱特镀膜科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 | 代理人: | 殷红梅 |
地址: | 214437 江苏省无锡市江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 背管 靶材 本实用新型 钎焊层 铬硅 变形 功能材料领域 安装方便 铬硅合金 内密封面 定位槽 内密封 法兰 积瘤 溅射 卡槽 起弧 省时 受力 | ||
1.一种旋转铬硅靶材,其特征在于,包括背管(1),背管(1)外设有钎焊层(6),钎焊层(6)外设有铬硅合金管(5);背管(1)的一端设有内密封面(2)和卡槽(3),背管(1)的另一端设有定位槽(7)和法兰(8)。
2.根据权利要求1所述的旋转铬硅靶材,其特征在于,所述背管(1)内壁的两端设有导向斜面(10)。
3.根据权利要求1所述的旋转铬硅靶材,其特征在于,所述铬硅合金管(5)的两端设有防裂倒角(4)和溅射过渡区(9)。
4.根据权利要求1所述的旋转铬硅靶材,其特征在于,所述铬硅合金管(5)中部的厚度为3-15毫米。
5.据权利要求1所述的旋转铬硅靶材,其特征在于,所述钎焊层(6)为铟层。
6.据权利要求1所述的旋转铬硅靶材,其特征在于,所述背管(1)为304不锈钢背管。
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