[实用新型]单晶基片切割台有效

专利信息
申请号: 201721775614.2 申请日: 2017-12-18
公开(公告)号: CN207724597U 公开(公告)日: 2018-08-14
发明(设计)人: 陈静怡 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: B28D5/00 分类号: B28D5/00;B28D7/00;G01N1/04
代理公司: 杭州天正专利事务所有限公司 33201 代理人: 王兵;黄美娟
地址: 310014 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 按压弹片 单晶基片 相交 切割 安装平台 切割台 斜平面 基台 本实用新型 脆性断裂 基片表面 样品截面 轻便 延伸 受力 向内 卡住 搁置 对称
【权利要求书】:

1.单晶基片切割台,其特征在于:包括用于搁置单晶基片的基台和受力后可向内弯曲的按压弹片,所述基台包括用于安装按压弹片的安装平台和用于切断单晶基片的切割部,所述切割部具有两对称向下的斜平面,两斜平面的上边相交形成相交棱,相交棱的一端延伸至安装平台处;所述按压弹片安装在所述安装平台上,所述按压弹片的一端延伸至切割部的相交棱正上方,并且按压弹片与相交棱之间留有用于卡住单晶基片的间隙。

2.如权利要求1所述的单晶基片切割台,其特征在于:所述相交棱水平布置。

3.如权利要求2所述的单晶基片切割台,其特征在于:所述按压弹片的底面设有用于按压弹片受力后向内弯曲的凹槽,且凹槽的中心轴与相交棱共垂面。

4.如权利要求3所述的单晶基片切割台,其特征在于:所述按压弹片为矩形结构,且按压弹片的一端固装在水平的安装平台上,按压弹片的另一端延伸至切割部的相交棱正上方。

5.如权利要求4所述的单晶基片切割台,其特征在于:所述间隙的宽度大于单晶基片的宽度,定义间隙的宽度为位于按压弹片正下方的相交棱的长度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江工业大学,未经浙江工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721775614.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top