[实用新型]栽培槽营养液温度控制系统有效
申请号: | 201721787787.6 | 申请日: | 2017-12-19 |
公开(公告)号: | CN207503063U | 公开(公告)日: | 2018-06-15 |
发明(设计)人: | 刘玉凤;张耀丰;宁晓峰;李天来;齐明芳;鹿嘉智;王珍琪;冯雨龙 | 申请(专利权)人: | 沈阳农业大学 |
主分类号: | G05D23/185 | 分类号: | G05D23/185;G05B19/04 |
代理公司: | 西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙) 61223 | 代理人: | 韩晓娟 |
地址: | 110866 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 营养液 栽培槽 恒温控制装置 循环管 温度控制系统 本实用新型 通气装置 保温板 保温效果 循环液体 有效控制 植株生长 定植板 生长量 输气管 输液管 植株 定植 幼苗 供气 连通 | ||
本实用新型公开了栽培槽营养液温度控制系统,包括恒温控制装置、通气装置、栽培槽以及包裹在栽培槽外层的保温板;所述栽培槽的内部设有用于输送循环液体的循环管,所述循环管的两端均通过输液管与恒温控制装置连通;所述栽培槽的上方设有用于定植幼苗的定植板;所述通气装置通过输气管向栽培槽内部的营养液供气。本实用新型通过恒温控制装置进行温度的设置,循环管充分和营养液接触,有效控制并保持营养液的温度;同时,通过保温板的设置,增强了栽培槽的保温效果,减少了营养液的温度散失,可将营养液的温度控制在恒温控制装置所设温度的±1℃以内,满足植株生长的需要,提高了营养液的利用率,提高了植株的生长量。
技术领域
本实用新型具体涉及栽培槽营养液温度控制系统。
背景技术
日光温室是我国北方地区进行蔬菜反季节供应的主要园艺设施类型。日光温室生产的技术关键在于环境控制,而温度条件是作物生命活动最基本的环境条件。其中植物根区的温度在营养液栽培时较难控制。日光温室白天太阳光照强,温室内温度高,太阳光直接照在架式栽培槽上会使得营养液温度升高,对作物生长发育的影响很大,会导致作物的地上与地下生长不协调。营养液栽培在现代设施栽培中占有很大的比重,在许多家庭中也可以种植。
实用新型内容
针对上述存在的技术不足,本实用新型的目的是提供栽培槽营养液温度控制系统,以解决现有技术中营养液温度不稳定,影响植株生长的缺点。
为解决上述技术问题,本实用新型采用如下技术方案:
本实用新型提供栽培槽营养液温度控制系统,包括恒温控制装置、设置在恒温控制装置上方的通气装置、栽培槽以及包裹在栽培槽外层的保温板;所述栽培槽的内部设有用于输送循环液体的循环管,所述循环管的两端均通过输液管与恒温控制装置连通;所述栽培槽的上方设有用于定植幼苗的定植板;所述通气装置通过输气管向栽培槽内部的营养液供气。
优选地,所述恒温控制装置为CK4007GD恒温槽。
优选地,所述通气装置为AP-005型通气泵。
优选地,所述循环管呈螺旋状。
优选地,所述保温板与栽培槽之间填充有泡沫填缝剂。
优选地,所述泡沫填缝剂为聚氨酯材料。
本实用新型的有益效果是:本实用新型提供的栽培槽营养液温度控制系统,通过恒温控制装置进行温度的设置,循环管充分和营养液接触,有效控制并保持营养液的温度;同时,通过保温板的设置,增强了栽培槽的保温效果,减少了营养液的温度散失,可将营养液的温度控制在恒温控制装置所设温度的±1℃以内,满足植株生长的需要,提高了营养液的利用率,提高了植株的生长量。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型实施例提供的栽培槽营养液温度控制系统的结构示意图;
图2为本实用新型中栽培槽的局部剖视示意图。
附图标记说明:
1-恒温控制装置,2-通气装置,3-输气管,4-保温板,5-定植板,6-循环管,7-栽培槽,8-输液管。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
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