[实用新型]一种滚动支架抛光设备有效
申请号: | 201721788091.5 | 申请日: | 2017-12-20 |
公开(公告)号: | CN207672151U | 公开(公告)日: | 2018-07-31 |
发明(设计)人: | 刘志豪 | 申请(专利权)人: | 上海昊立精密机械有限公司 |
主分类号: | C25F7/00 | 分类号: | C25F7/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201202 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 抛光设备 电解抛光 滚动支架 控制模块 电解液 控制箱 抛光 本实用新型 控制面板 气泵 支架 隔板 电能输入端 接线板模块 时间周期性 信号输出端 电源模块 脉冲电流 脉冲电源 内部导线 内部设置 前面面板 直流电源 主体内部 排气孔 | ||
本实用新型公开了一种滚动支架抛光设备,包括电解抛光箱、控制面板、抛光设备主体和电解液控制箱,抛光设备主体一侧设置有排气孔,抛光设备主体内部设置有电解液控制箱,电解液控制箱上方设置有气泵,气泵通过内部导线连接有控制模块,控制模块电能输入端连接有电源模块,控制模块信号输出端连接有接线板模块,抛光设备主体通过隔板上方设置有电解抛光箱,电解抛光箱前面面板设置有控制面板,电解抛光箱内部设置有滚动支架;本实用新型通过对原先使用直流电源进行支架抛光,现更改为脉冲电源进行支架抛光,避免了直流抛光的不彻底性,普通电流是持续的,不间断的电流。脉冲电流是方向不变,强度随时间周期性改变的电流。
技术领域
本实用新型涉及抛光设备领域,尤指一种滚动支架抛光设备。
背景技术
抛光设备操作的关键是要设法得到最大的抛光速率,以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响最终观察到的组织,即不会造成假组织。前者要求使用较粗的磨料,以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层,但抛光损伤层也较深;后者要求使用最细的材料,使抛光损伤层较浅,但抛光速率低,工件及模具的抛光一直是机械加工行业的一项主要工作,抛光对于提高工件及模具的表面质量及使用性能起着至关重要的作用。但是,由于有些工件及模具的形状比较复杂,无法采用机床进行加工,所以,至今仍有很多工厂仍在使用原始的砂、锉、磨、刮等手工方法进行操作,这不仅与现代化的工业不相适应,同时也给操作工人增添了繁重的劳动,抛光技术为单一面的加工,当加工一面完毕之后再对另一面进行抛光处理,加工工序繁琐,工作效率低下,不利于生产,而且加工一般不具备化学抛光机,这样使得抛光不彻底,而且化学抛光机的废液不易收集体来说,原先使用直流电源进行支架抛光,抛光效果不好。
发明内容
本实用新型要解决的技术问题是克服现有技术的缺点,提供一种抛光自动化高精度高,操作步骤简单、实用多功能的滚动支架抛光设备。
为了解决上述技术问题,本实用新型提供了如下的技术方案:本实用新型一种滚动支架抛光设备,包括电解抛光箱、控制面板、抛光设备主体和电解液控制箱,抛光设备主体一侧设置有排气孔,抛光设备主体内部设置有电解液控制箱,电解液控制箱上方设置有气泵,气泵通过内部导线连接有控制模块,控制模块电能输入端连接有电源模块,控制模块信号输出端连接有接线板模块,抛光设备主体通过隔板上方设置有电解抛光箱,电解抛光箱前面面板设置有控制面板,电解抛光箱内部设置有滚动支架。
作为本实用新型的一种优选技术方案,控制面板包括控制按键和液晶显示屏,液晶显示屏右侧设置有若干个控制按键,方便对整个装置的控制与监控。
作为本实用新型的一种优选技术方案,电源模块为脉冲电源,避免了直流抛光的不彻底性,普通电流是持续的,不间断的电流。脉冲电流是方向不变,强度随时间周期性改变的电流。脉冲电源使抛光效果更稳定,。
作为本实用新型的一种优选技术方案,接线板模块通过内部导线分别与液晶显示屏、电解液控制箱和气泵电连接,提高电解的效率。
作为本实用新型的一种优选技术方案,控制模块包括PLC控制器和存储模块,PLC控制器信号输出端连接有存储模块,实现了自动化的功能。
本实用新型所达到的有益效果是:本实用新型为一种滚动支架抛光设备,通过对原先使用直流电源进行支架抛光,现更改为脉冲电源进行支架抛光,避免了直流抛光的不彻底性,普通电流是持续的,不间断的电流。脉冲电流是方向不变,强度随时间周期性改变的电流。脉冲电源使抛光效果更稳定,本实用新型自动化程度高,不仅方便了下面的抛光工序,而且使得抛光更为彻底,通过环形废液槽和废液收集槽可以对于使用过的抛光液进行收集,使得抛光液不会到处流淌,方便了工作之后的清洁,而且从一定程度上还可以节约抛光时间和成本,具有很强的实用性。
附图说明
附图用来提供对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的限制。
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