[实用新型]一种原子层沉积自动镀膜装置

权利要求书

1.一种原子层沉积自动镀膜装置，包括ALD反应器及自动上下料系统，其特征在于，所述自动上下料系统包括：

花篮，花篮内放置硅片；

花篮平移部组，将花篮在硅片转移机构处至上下料机最右端的上料处移转；花篮的上下料可采用人工操作或与自动化搬运小车对接；

硅片转移机构，设置于花篮平移部组的上方，硅片转移机构将硅片在舟与花篮之间转移；

舟平台滑动组件，其设置在ALD反应器的前端，其将舟在抓舟机械手下方的工位与抓舟取盖天车下方的工位之间移动；

载具平移部组，其平行设置在舟平台滑动组件的两侧，舟在载具平移部组上平行放置；

抓舟取盖天车，其设置在载具平移部组上方，其将舟在舟平台滑动组件与载具平移部组之间搬运；

桨，设置在舟平台滑动组件的一侧，桨伸入ALD反应器腔体内将舟取出及放入；

抓舟机械手，设置在舟平台滑动组件的另一侧与桨相对，其抓取桨上的舟放置在舟平台滑动组件上，或者抓取舟平台滑动组件上的舟放置在桨上；

舟，舟内放置的硅片，舟进入ALD反应器内的腔体，在腔体内进行镀膜反应。

2.根据权利要求1所述的一种原子层沉积自动镀膜装置，其特征在于：所述舟平台滑动组件上设有放置舟的载板，舟平台滑动组件设有左、右两工位，左工位位于抓舟机械手下方，右工位位于抓舟取盖天车下方，舟随载板左右平移在左、右两工位之间转换。

3.根据权利要求1所述的一种原子层沉积自动镀膜装置，其特征在于：所述抓舟机械手和桨配合，将载有未镀膜硅片的舟从舟平台滑动组件上搬运至ALD反应器中或者将载有镀膜硅片的舟从ALD反应器中搬运至舟平台滑动组件上。

4.根据权利要求1所述的一种原子层沉积自动镀膜装置，其特征在于：所述硅片转移机构，将花篮中的待镀膜硅片吸取后转移运送至载具平移部组处，并将其插入到位于载具平移部组上的舟中或者将舟中的镀膜后硅片吸取转移至花篮中。

5.根据权利要求1所述的一种原子层沉积自动镀膜装置，其特征在于：所述载具平移部组设置两个，一个用于放置载有已镀膜硅片的舟，另一个放置待镀膜硅片的舟。

6.根据权利要求1所述的一种原子层沉积自动镀膜装置，其特征在于：所述ALD反应器包括抽气系统、反应腔体、电控系统、水冷系统和化学源系统，所述抽气系统为至少一个反应腔体抽真空，保持反应腔体的真空度；所述电控系统控制管式原子层沉积系统；水冷系统对至少一个反应腔体进行冷却；化学源系统为至少一个反应腔体提供反应原料。

7.根据权利要求6所述的一种原子层沉积自动镀膜装置，其特征在于：所述原子层沉积自动镀膜装置还设有至少两个可同时进行镀膜的ALD反应器，所述自动上下料系统可对应至少一套ALD反应器。

8.根据权利要求7所述的一种原子层沉积自动镀膜装置，其特征在于：所述两个以上ALD反应腔体可在水平或垂直方向平行叠加。