[实用新型]光学滤波器以及光学滤波器阵列

权利要求书

1.光学滤波器阵列，具有前侧和后侧，其特征在于，所述光学滤波器阵列包括：

第一光学滤波器，包括具有与所述阵列的后侧重合的后表面的第一基板和具有与所述阵列的前侧重合的前表面的第一滤波器层，所述第一光学滤波器具有从所述前侧延伸到所述后侧的第一侧壁，所述第一光学滤波器被配置为传递第一范围的光学波长；

第二光学滤波器，包括具有与所述阵列的后侧重合的后表面的第二基板和具有与所述阵列的前侧重合的前表面的第二滤波器层，所述第二光学滤波器具有从所述前侧延伸到所述后侧的第二侧壁，所述第二光学滤波器被配置为传递和所述第一范围不同的第二范围的光学波长；和

在所述第一和第二侧壁之间的模制化合物，所述模制化合物与所述第一和第二光学滤波器层的前表面共面，并且与所述第一和第二基板的后表面共面。

2.权利要求1所述的光学滤波器阵列，其特征在于，其中所述第一基板包括玻璃。

3.权利要求1所述的光学滤波器阵列，其特征在于，其中所述第二基板包括玻璃。

4.权利要求1所述的光学滤波器阵列，其特征在于，其中所述第一和第二基板的后表面以及所述模制化合物的后侧包括限定材料去除过程的标志的标记。

5.权利要求4所述的光学滤波器阵列，其特征在于，其中所述标记限定研磨过程的标志。

6.权利要求1所述的光学滤波器阵列，其特征在于，其中所述模制化合物从所述光学滤波器阵列的前侧至所述光学滤波器阵列的后侧的厚度在50μm至500μm的范围内。

7.光学滤波器，其特征在于，所述光学滤波器包括：

具有前侧和后侧的光学透明基板；

所述光学透明基板的前侧上的光学滤波器层；和

沉积在所述光学透明基板和所述光学滤波器层的侧壁上的模制化合物，所述模制化合物与所述光学透明基板的后侧和所述光学滤波器层的前侧共面，其中所述模制化合物从所述光学滤波器层的前侧至所述光学透明基板的后侧的厚度在50μm至500μm的范围内。

8.权利要求7所述的光学滤波器，其特征在于，其中所述光学透明基板包括玻璃。

9.权利要求7所述的光学滤波器，其特征在于，其中所述光学透明基板的后侧和所述模制化合物的后侧包括限定材料去除过程的标志的标记。

10.权利要求9所述的光学滤波器，其特征在于，其中所述标记限定研磨过程的标志。

11.权利要求7所述的光学滤波器，其特征在于，其中所述光学滤波器层的前侧和所述光学透明基板的后侧暴露，并且其中所述模制化合物完全包围所述光学滤波器层和所述光学透明基板的侧壁。

12.光学滤波器阵列，其特征在于，所述阵列包括权利要求7所述的光学滤波器，所述阵列还包括：具有第二光学透明基板和第二光学滤波器层的第二光学滤波器，所述第二光学滤波器与所述光学滤波器横向隔开，其中所述模制化合物插入所述光学滤波器与所述第二光学滤波器之间。

13.权利要求12所述的阵列，其特征在于，其中所述第二光学透明基板的后侧与所述光学透明基板的后侧共面。