[实用新型]一种线栅偏振器的制造系统有效
| 申请号： | 201721817549.5 | 申请日： | 2017-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN208399717U | 公开（公告）日： | 2019-01-18 |
| 发明（设计）人： | 刘全;吴建宏 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 常亮 |
| 地址： | 215104 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 全息光刻系统 线栅偏振器 光栅 制造系统 光刻 离子束刻蚀机 本实用新型 干法刻蚀机 光刻胶掩模 离子束刻蚀 方式逐层 高深宽比 光学对准 莫尔条纹 第一层 镀膜机 涂胶机 制造线 全息 刻蚀 线栅 掩模 对准 制作 制造 | ||
【权利要求书】：
1.一种线栅偏振器的制造系统，其特征在于，包括镀膜机、光刻涂胶机、PECVD装置、干法刻蚀机、离子束刻蚀机、全息光刻系统、以及与所述全息光刻系统结合设置的光学对准装置，所述镀膜机用于在一基片上镀制一金属膜层，所述光刻涂胶机用于在金属膜层上涂布光刻胶，所述全息光刻系统用于在光刻胶上制作光刻胶掩模，采用离子束刻蚀机实现掩模转移，在金属膜层上形成沟槽，所述PECVD装置用于在沟槽内填入硅材料，所述干法刻蚀机用于去除硅材料，所述离子束刻蚀机还用于对制作区表面进行抛光，所述光学对准装置用于进行光栅对准。
2.如权利要求1所述的线栅偏振器的制造系统，其特征在于，所述光学对准装置包括一分束镜、一第一反射镜、一第二反射镜、一第一透镜、一第二透镜、一微位移器件以及一位相控制器，入射所述光学对准装置的激光被所述分束镜分为两束，分别由所述第一反射镜和所述第二反射镜反射，再分别经所述第一透镜和所述第二透镜在被制作的所述基片表面形成干涉条纹，所述微位移器件与所述第一反射镜连接，且所述微位移器件与所述位相控制器电连接。
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