[实用新型]一种反贴套孔排废工艺的设备有效

专利信息
申请号: 201721824735.1 申请日: 2017-12-23
公开(公告)号: CN207682547U 公开(公告)日: 2018-08-03
发明(设计)人: 张立建 申请(专利权)人: 路德通电子设备(北京)有限公司
主分类号: B26F1/44 分类号: B26F1/44;B26D7/18
代理公司: 北京维正专利代理有限公司 11508 代理人: 徐旭栋
地址: 101102 北京市通州区中关村科技*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 刀具 美纹纸 隔离膜 刀座 胶膜 胶性 主膜 复合 本实用新型 胶面 排废 套孔 轮廓加工 复合膜 粘合 朝上 带料 切出 收卷 下模 小孔 穿过
【说明书】:

实用新型公开了一种反贴套孔排废工艺的设备,Q14上缠有带胶过程膜,Q1上缠有主膜,主膜和带胶过程膜的胶面均朝上,复合后依次穿过G1~G7刀座;G3刀座上设置有主膜进行轮廓加工的T2刀具,Q15上缠有弱胶膜,弱胶膜在T2刀具前复合至复合膜的上方,T2刀具从上往下模切至带胶过程膜,G4刀座上设置T3刀具,Q6上缠有非胶性隔离膜,非胶性隔离膜经T3刀具切出带料小孔后复合至弱胶膜上方;Q17上缠有美纹纸,Q17上的美纹纸胶面朝下复合至非胶性隔离膜后经Q7收卷。本实用新型达到了在美纹纸粘离主膜上方过程膜的过程中美纹纸不与主膜下方过程膜粘合的效果。

技术领域

本实用新型涉及一种模切孔设备,特别涉及一种反贴套孔排废工艺的设备。

背景技术

在加工模切片的过程中,为方便带走切膜后产生的废料,需要在主膜上方贴覆多层带胶的过程膜,通过带胶的过程膜将模切主膜产生的废料粘住一并随过程膜带走。在模切的过程中,多层过程膜会在模切主膜轮廓的过程中,主膜上方的过程膜会一并切出与主膜一致的轮廓,而主膜上方的过程膜属于废料,需要将这些过程膜脱离主膜。

现有的分离与主膜轮廓一致且位于主膜上方的过程膜的工艺为,使用美纹纸逐层地将主膜上方的过程膜压紧粘合并随美纹纸一起带走提出。其不足之处在于,当主膜的轮廓较小的时候,使用美纹纸排废过程膜时,美纹纸很容易粘至主膜轮廓下方的带动主膜轮廓移动的过程膜,这样美纹纸与主膜下方的过程膜互相粘合,很难脱离。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种反贴套孔排废工艺的设备,解决了美纹纸在粘离主膜上方过程膜的过程中与主膜下方的过程膜粘合的问题。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的:

一种反贴套孔排废工艺的设备,包含多个转动辊和多个刀座,转动辊环绕在刀座周围,转动辊依次为Q1~Q17,刀座从前往后依次为G1~G7,每个刀座上均设置有圆压圆模切机,Q14上缠有带胶过程膜,Q1上缠有主膜,主膜和带胶过程膜的胶面均朝上,复合后依次穿过G1~G7刀座;G3刀座上设置有主膜进行轮廓加工的T2刀具,Q15上缠有弱胶膜,弱胶膜在T2刀具前复合至复合膜的上方,T2刀具从上往下模切至带胶过程膜,模切后的轮廓废料经Q4收卷带走,G4刀座上设置T3刀具,Q6上缠有非胶性隔离膜,非胶性隔离膜经T3刀具切出带料小孔后复合至弱胶膜上方;Q17上缠有美纹纸,Q17上的美纹纸胶面朝下复合至非胶性隔离膜后经Q7收卷。

通过采用上述技术方案,经T2刀具模切轮廓后,弱胶膜、主膜被模切出产品轮廓,之后在弱胶膜上复合一层具有带料小孔的非胶性隔离膜,随后美纹纸与非胶性隔离膜粘合,并透过非胶性隔离膜的带料小孔与弱胶膜粘合,美纹纸在经Q7收卷后,将非胶性隔离膜和主膜上方的弱胶膜粘起带离复合膜,在此过程中美纹纸通过非胶性隔离膜不与主膜下方的过程膜接触,达到了在美纹纸粘离主膜上方过程膜的过程中美纹纸不与主膜下方过程膜粘合的效果。

较佳地,Q16上缠有带胶过程膜,在Q6上的非胶性隔离膜进入T3刀具前,Q16上的带胶过程膜的胶面朝下复合至非胶性隔离膜上方,T3刀具从下方模切至带胶过程膜,之后带胶过程膜经Q5收卷。

通过采用上述技术方案,非胶性隔离膜在经过T3刀具模切后,其上的孔废料粘附在带胶过程膜上,由带胶过程膜收卷带走,达到除去非胶性隔离膜孔废料的效果。

较佳地,T2刀具为高低刀,高刀模切主膜上的轮廓,模切至Q14上的带胶过程膜下表面;低刀模切主膜轮廓,模切至Q14上的带胶过程膜的上表面。

通过采用上述技术方案,作为高低刀的T2刀具,能够同时模切孔和模切轮廓。

较佳地,Q13上缠有带胶过程膜,在G2至G3刀座之间,Q13上的带胶过程膜的胶面朝上复合至Q14的带胶过程膜上,Q13的带胶过程膜经过G3刀座后经Q12收卷。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于路德通电子设备(北京)有限公司,未经路德通电子设备(北京)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721824735.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top