[实用新型]一种静电干法循环施釉装置

说明书

本实用新型公开了一种静电干法循环施釉装置，包括分釉箱，涉及陶瓷制品生产设备领域，其包括高压静电筒、空压机、脉冲控制仪、循环回收设备、工作台、传输带、防护罩以及托架，所述分釉箱外壁与所述高压静电筒外壁设置支撑杆，所述支撑杆另一端设置伸缩架；所述进气管上设置电磁阀，所述脉冲控制仪通过导线与电磁阀连接；所述防护罩包括两组相对称的由外门、内门、滑轨组成的罩门以及罩壁；所述循环回收设备与所述防护罩内部连接，所述循环回收设备内设置静电消除器。本实用新型提供了一种可根据施釉工作状态进行调整的静电干法循环施釉装置，保障静电干法施釉过程的密闭性，可有效防止釉粉泄漏，同时避免循环回收的釉粉带有静电。

技术领域

本实用新型涉及陶瓷制品生产设备领域，具体是一种静电干法循环施釉装置。

背景技术

目前干法静电施釉在陶瓷瓷砖上釉时使用越来越广泛，该方法将釉粉通过空气流悬浮送入高压电场，使之带负电，而坯体带正电，釉粉覆盖在坯体上，当釉粉与坯体之间的电位接近零时，则完成施釉过程。干法静电施釉具有施釉简单、釉面品质好、釉层厚度均匀一致等优点。如专利CN204174114U公开了一种可控制脉动的静电干法循环施釉装置，该技术方案设置带预设脉冲控制器的空压机以及带有两层过滤网的回收罐来实现干法静电施釉以及干釉粉回收。但该技术方案直接传送带将坯体输送至高压静电筒内，为了实现坯体进入，虽然有墙壁对高压静电筒进行围栏，但高压静电筒必然是非密闭装置，静电操作过程中容易出现釉粉外泄，造成浪费不易回收，同时高压对操作环境造成不利影响。此外回收的釉粉仍带有高压静电，不易于收集与循环使用。

发明内容

针对现有技术中静电干法循环施釉过程中釉粉易外泄、对回收造成困难等技术问题，本实用新型提供了一种静电设备可根据施釉工作状态进行调整的可控制脉动的静电干法循环施釉装置，保障静电干法施釉过程的密闭性，可有效防止釉粉泄漏，同时避免循环回收的釉粉带有静电。

本实用新型通过以下技术方案予以实现：

一种静电干法循环施釉装置包括分釉箱、高压静电筒、空压机、脉冲控制仪、循环回收设备、工作台、传输带、防护罩、托架，所述分釉箱与所述高压静电筒通过支釉管连接，所述空压机与所述支釉管通过进气管连接，所述进气管上设置电磁阀，所述脉冲控制仪通过导线与电磁阀连接。

所述分釉箱外壁与所述高压静电筒外壁设置支撑杆，所述支撑杆另一端设置伸缩架。所述防护罩固定在所述工作台上，所述传输带贯穿所述防护罩，所述循环回收设备与所述防护罩内部连接，所述循环回收设备内设置静电消除器，用于固定坯体的所述托架设置在传输带。当不进行施釉时，伸缩架向上延伸，使得支撑杆向上移动，带动高压静电筒向上升起，置于防护罩上方。当需要对坯体进行施釉时，伸缩架收缩支撑杆向下移动带动高压静电筒降下进入防护罩内，防护罩与高压静电筒组成密闭空间。

所述高压静电筒包括与支釉管连通的筒体、设置支釉管末端的喷雾头、设置在筒体内壁上的高压静电反生器，所述支釉管末端贯通筒体顶端。

所述防护罩包括两组相对称的罩门、连接两组罩门的罩壁，所述罩门包括外门、内门、用于外门上下滑动的滑轨，所述外门与内门通过滑轨连接，所述内门上开有通道口。当施釉作业时，外门沿着滑轨向上滑动，打开通道口，传输带运输坯体通过通道口进入防护罩内后，外门沿着滑轨向下滑动，关闭通道口。

进一步地，所述循环回收设备包括组合成倒斗形状的两根以上回收管、设置回收管末端的抽吸泵、与回收管连通的回收箱、用于连通回收管与回收箱的进料管、内置于所述回收箱的静电消除器与过滤网、设置在所述回收箱底端的收集斗，所述回收管顶端贯穿所述工作台并置于防护罩内部，所述回收管与所述工作台连接处设置止回阀，所述回收箱底端设置开口，所述收集斗套在回收箱开口上，所述过滤网为向上凸起的曲面。收集的釉粉粒子在静电消除器作用下消除高压静电，过滤网的曲面设置使得接触面积更大，收集斗可直接收集釉粉粒子，回收时直接取下收集斗即可，操作简单。