[实用新型]一种主动降温复合瓦有效

专利信息
申请号: 201721850083.9 申请日: 2017-12-26
公开(公告)号: CN207794445U 公开(公告)日: 2018-08-31
发明(设计)人: 李涌泉 申请(专利权)人: 孙国飞;朱瀚文
主分类号: E04D1/28 分类号: E04D1/28;H01L35/28;H01L35/34
代理公司: 北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙) 11548 代理人: 李静
地址: 150081 黑龙江省哈尔滨市哈*** 国省代码: 黑龙江;23
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 膜层 复合瓦 导电引线 上导电层 基底 热电 本实用新型 下导电层 主动降温 下表面 最底层 交替排布 绿色生产 热量传递 热量转化 室内电器 涂敷 室内
【权利要求书】:

1.一种主动降温复合瓦,包括复合瓦(1)、热电基底(2),其特征在于,其中热电基底(2)包括上导电层(21)、Bi膜层(22)、Te膜层(23)、下导电层(24)、上导电引线(25)、下导电引线(26):

所述复合瓦(1)下表面设置有热电基底(2),热电基底(2)顶部为涂敷在复合瓦(1)下表面的上导电层(21),上导电层(21)下方设置有Bi膜层(22)和Te膜层(23),Bi膜层(22)和Te膜层(23)交替排布,且以Bi膜层(22)作为最底层,最底层的Bi膜层(22)下方设置有下导电层(24);所述上导电层(21)和下导电层(24)分别从左侧引出上导电引线(25)和下导电引线(26)。

2.根据权利要求1所述的一种主动降温复合瓦,其特征在于,所述上导电层(21)和所述下导电层(24)为铂铑合金层,厚度为4-6微米。

3.根据权利要求1所述的一种主动降温复合瓦,其特征在于,所述热电基底(2)内包含五层Bi膜层(22)和四层Te膜层(23)。

4.根据权利要求1所述的一种主动降温复合瓦,其特征在于,所述Bi膜层(22)厚度为10-20微米,Bi膜层(22)是通过磁控溅射生长形成,生长条件为真空度10-6Pa,氩气通入流量为0.4-0.8mL/分钟,磁控溅射时间7分钟,直流电源供电,功率10W。

5.根据权利要求1所述的一种主动降温复合瓦,其特征在于,所述Te膜层(23)厚度为40微米,Te膜层(23)是通过磁控溅射生长形成,生长条件为真空度10-6Pa,氩气通入流量为0.4-0.8mL/分钟,磁控溅射时间10-15分钟,射频电源供电,功率25W。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于孙国飞;朱瀚文,未经孙国飞;朱瀚文许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721850083.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top