[实用新型]覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置有效

专利信息
申请号: 201721853266.6 申请日: 2017-12-26
公开(公告)号: CN207637506U 公开(公告)日: 2018-07-20
发明(设计)人: 林浩;张昌有;尼古拉·库克萨诺夫;程安仁;矫阳;鲍矛;希尔盖·法捷耶夫;陆永俊;维克多·普拉克辛 申请(专利权)人: 北射沃华核技术(北京)有限公司;山西壹泰科电工设备有限公司;俄罗斯科学院新西伯利亚核物理研究院
主分类号: G21K5/00 分类号: G21K5/00;G21K5/08;G21K5/04;B29C35/08;B29L30/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 王春光
地址: 100015 北京市朝阳区酒*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 屏蔽室 支撑架 屏蔽体 屏蔽 覆胶帘布 右屏蔽板 左屏蔽板 辐照 束下装置 扫描窗 吸收靶 右侧壁 自屏蔽 左侧壁 固设 上凸 体内 本实用新型 电子加速器 材料损耗 空间分配 上下相对 导向辊 内出口 外出口 底壁 顶壁 分隔 射线 室内
【说明书】:

本实用新型提供一种覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置,其包括屏蔽体,屏蔽体内的左侧壁上凸设左屏蔽板,屏蔽体内的右侧壁上凸设右屏蔽板,屏蔽体的底壁上设有支撑架,屏蔽体通过左屏蔽板、右屏蔽板和支撑架分隔为主屏蔽室、左辅助屏蔽室和右辅助屏蔽室,左侧壁上设有外入口,右侧壁上设有外出口,支撑架分别与左屏蔽板和右屏蔽板之间形成内入口和内出口,左辅助屏蔽室与主屏蔽室相连通,主屏蔽室与右辅助屏蔽室相连通,支撑架上设有多个导向辊,固设于支撑架上的吸收靶与固设于屏蔽体顶壁的电子加速器的扫描窗上下相对,主屏蔽室内的覆胶帘布经过吸收靶与所述扫描窗之间。其在屏蔽射线的同时,有效利用空间分配,占地面积小,材料损耗和重量小。

技术领域

本实用新型涉及橡胶辐射加工技术领域,具体是一种覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置。

背景技术

随着轮胎行业技术改造升级的进行,越来越多的轮胎厂家在轮胎生产中引入了辐照预硫化技术和装备,这种变革性的轮胎制造技术已在相关专利技术中得到了体现例如中国发明专利CN200810105983.X、CN200810105985.9、CN200810105986.3及CN200910090089.4。该技术要求在轮胎生产线中加入模块式的电子加速器辐照系统,并要求该系统设备结构紧凑、占地面积小。特别是针对一些老的生产线改造,由于厂房已经定型、事先未为辐照系统预留位置,对电子加速器辐照系统设备提出了更高的要求,而决定电子加速器辐照系统占地面积最主要的因素便是自屏蔽结构的设计和束下运输系统的设计。

目前,国内外现有的电子加速器的自屏蔽结构和束下装置,为了保证自屏蔽结构的屏蔽效果,都是采用在产品的传输方向上直接增加屏蔽空间、增加屏蔽用档板等措施,从而导致自屏蔽结构占地面积大,体积大,屏蔽体耗材和重量也随之上升,无法满足上述要求。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置,其在屏蔽射线的同时,有效利用空间分配,结构紧凑,占地面积小,材料损耗和重量小。

本实用新型的上述目的可采用下列技术方案来实现:

本实用新型提供一种覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置,其包括空心的屏蔽体,所述屏蔽体内的左侧壁上凸设水平设置的左屏蔽板,所述屏蔽体内的右侧壁上凸设水平设置的右屏蔽板,所述屏蔽体的底壁上设有位于所述左屏蔽板和所述右屏蔽板之间的支撑架,所述屏蔽体通过所述左屏蔽板、所述右屏蔽板和所述支撑架分隔为位于上方的主屏蔽室和位于下方的左辅助屏蔽室与右辅助屏蔽室,所述左侧壁上设有供覆胶帘布穿入所述左辅助屏蔽室的外入口,所述右侧壁上设有供所述覆胶帘布穿出所述右辅助屏蔽室的外出口,所述支撑架与所述左屏蔽板之间形成内入口,所述支撑架与所述右屏蔽板之间形成内出口,所述左辅助屏蔽室通过所述内入口与所述主屏蔽室相连通,所述主屏蔽室通过所述内出口与所述右辅助屏蔽室相连通,所述支撑架上设有多个引导所述覆胶帘布依次穿过所述内入口、所述内出口和所述外出口的导向辊,所述支撑架上固设吸收靶,所述屏蔽体的顶壁固设电子加速器,所述吸收靶与所述电子加速器的扫描窗上下相对,进入所述主屏蔽室内接受辐照的所述覆胶帘布经过所述吸收靶与所述扫描窗之间。

在优选的实施方式中,所述主屏蔽室内设有能摆动的束流挡板,所述束流挡板的一端枢接于所述屏蔽体,所述束流挡板的另一端能挡设于所述扫描窗与所述吸收靶之间。

在优选的实施方式中,所述束流挡板、所述吸收靶和所述导向辊均由不锈钢制成,所述束流挡板和所述吸收靶内设有循环冷却水,所述导向辊的直径为100mm~250mm。

在优选的实施方式中,所述导向辊为四个,两个所述导向辊对称设于所述支撑架的上方,另两个所述导向辊分别与所述外入口和所述外出口相对。

在优选的实施方式中,所述主屏蔽室内设有风冷却机构,所述风冷却机构位于所述电子加速器的一侧,所述风冷却机构的出风口与所述扫描窗的出口相对。

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