[实用新型]一种基于动态光学遮蔽板的切趾光栅二次曝光制作系统

权利要求书

1.一种基于动态光学遮蔽板的切趾光栅二次曝光制作系统，其特征在于，所述切趾光栅二次曝光制作系统包括：紫外准分子激光器、一次曝光光学遮蔽板、一次曝光光学遮蔽板控制器、平凸柱面镜、均匀相位掩模板、二次曝光光学补偿板以及二次曝光光学补偿板控制器；其中，所述紫外准分子激光器发射出的紫外光沿x轴方向，去除涂敷层的待制备切趾光栅的氢载光纤沿z轴放置；所述一次曝光光学遮蔽板、一次曝光光学遮蔽板控制器、平凸柱面镜和均匀相位掩模板构成一次曝光单元，一次曝光单元设置在紫外准分子激光器与氢载光纤之间的光路上，所述一次曝光光学遮蔽板电学连接至一次曝光光学遮蔽板控制器，所述平凸柱面镜和均匀相位掩模板沿x轴依次设置在一次曝光光学遮蔽板前；所述二次曝光光学补偿板、二次曝光光学补偿板控制器和平凸柱面镜构成二次补偿单元，所述二次曝光单元设置在紫外准分子激光器与氢载光纤之间的光路上，所述二次曝光光学补偿板电学连接至二次曝光光学补偿板控制器，所述平凸柱镜沿x轴设置在二次曝光光学补偿板前所述；一次曝光光学遮蔽板和二次曝光光学补偿板上的挡板中心开设有开孔，二者所在的平面为yz平面，所述二次曝光光学补偿板上的开孔为一次曝光光学遮蔽板的共轭函数。

2.如权利要求1所述的切趾光栅二次曝光制作系统，其特征在于，所述一次曝光光学遮蔽板的挡板中心的开孔为中心对称结构，开孔的形状为顶角为θ的等腰三角形，所述等腰三角形的高沿y轴。

3.如权利要求2所述的切趾光栅二次曝光制作系统，其特征在于，所述二次曝光光学补偿板的挡板中心的开孔的形状为一次曝光光学遮蔽板的互补图形。

4.如权利要求1所述的切趾光栅二次曝光制作系统，其特征在于，所述切趾光栅二次曝光制作系统包括两种曝光方式：分布补偿方式和同时补偿方式。

5.如权利要求4所述的切趾光栅二次曝光制作系统，其特征在于，在所述分布补偿方式中，在紫外准分子激光器与待制备的氢载光纤的光路之间，沿着x轴依次放置一次曝光光学遮蔽板、二次曝光光学补偿板、平凸柱面镜和均匀相位掩模板。

6.如权利要求4所述的切趾光栅二次曝光制作系统，其特征在于，在所述同时补偿方式中，紫外准分子激光器发射出沿x轴方向的紫外光，由分光器分成两束，在第一束紫外光与待制备的氢载光纤的光路之间，沿着x轴依次放置一次曝光光学遮蔽板、第一平凸柱面镜和均匀相位掩模板，在第二束紫外光与待制备的氢载光纤的光路之间，沿着x轴依次放置二次曝光光学补偿板和第二平凸柱面镜。