[实用新型]旋转式漂洗干燥装置有效
申请号: | 201721858170.9 | 申请日: | 2017-12-27 |
公开(公告)号: | CN207602532U | 公开(公告)日: | 2018-07-10 |
发明(设计)人: | 郑熙澈 | 申请(专利权)人: | 凯斯科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 北京冠和权律师事务所 11399 | 代理人: | 朱健;陈国军 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基板放置部 干燥装置 旋转式 漂洗 护圈 基板 本实用新型 二次污染 上升气流 形式形成 配置 旋盖 侧面 | ||
1.一种旋转式漂洗干燥装置,其特征在于,包括:
基板放置部,其以能够旋转的形式设置,基板安放于基板放置部上部;
护圈,其配置于所述基板放置部的侧面周围;
旋盖,其以包裹所述基板放置部的周围的形式形成,并配置于所述护圈的内部。
2.根据权利要求1所述的旋转式漂洗干燥装置,其特征在于,
所述旋盖设置为对由所述基板放置部的旋转而产生的旋转气流进行包裹。
3.根据权利要求1所述的旋转式漂洗干燥装置,其特征在于,所述旋盖包括:
侧面盖部,其配置于所述基板放置部的侧面周围;
下部盖部,其与所述侧面盖部的下端连接并配置于所述基板放置部的下部。
4.根据权利要求3所述的旋转式漂洗干燥装置,其特征在于,
所述旋盖设置为能够选择性地升降。
5.根据权利要求3所述的旋转式漂洗干燥装置,其特征在于,
在所述旋盖形成有排出孔,排出孔用于将流入所述旋盖的内部的流体排出至所述旋盖的外部。
6.根据权利要求5所述的旋转式漂洗干燥装置,其特征在于,
所述旋盖设置为能够旋转。
7.根据权利要求5所述的旋转式漂洗干燥装置,其特征在于,
所述排出孔形成于与所述下部盖部的上面相邻接的所述侧面盖部的最下端。
8.根据权利要求5所述的旋转式漂洗干燥装置,其特征在于,
沿着所述旋盖的圆周方向以隔开的形式形成有多个所述排出孔。
9.根据权利要求5所述的旋转式漂洗干燥装置,其特征在于,
所述排出孔形成为圆形孔形态。
10.根据权利要求5所述的旋转式漂洗干燥装置,其特征在于,
所述排出孔形成为具有比宽度长的长度的长空孔形态。
11.根据权利要求3所述的旋转式漂洗干燥装置,其特征在于,
在所述下部盖部形成有倾斜引导部,倾斜引导部将流入所述旋盖的内部的流体从所述下部盖部的中心向所述下部盖部的外侧方向引导。
12.根据权利要求11所述的旋转式漂洗干燥装置,其特征在于,
所述倾斜引导部沿着所述下部盖部的边缘形成。
13.根据权利要求1至12中任意一项所述的旋转式漂洗干燥装置,其特征在于,包括:
排气端口,其使得气体从所述基板放置部的下部排出。
14.根据权利要求13所述的旋转式漂洗干燥装置,其特征在于,
所述排气端口以与所述旋盖的外面和所述护圈的内面之间的空间相连通的形式形成。
15.根据权利要求14所述的旋转式漂洗干燥装置,其特征在于,
在所述护圈形成有流体排出通道,流体排出通道将流入所述护圈的内部的流体排出至所述护圈的外侧。
16.根据权利要求15所述的旋转式漂洗干燥装置,其特征在于,所述护圈包括:
上部护圈,其以隔开的形式配置于所述旋盖的侧面周围;
下部护圈,其配置于所述上部护圈的下部。
17.根据权利要求16所述的旋转式漂洗干燥装置,其特征在于,
所述流体排出通道形成于所述上部护圈和所述下部护圈之间。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造