[实用新型]一种电镀废水深度处理系统

权利要求书

1.一种电镀废水深度处理系统，其特征在于，包括：第一预处理装置，第二预处理装置，第三预处理装置，所述第一、第二、第三预处理装置相互独立不连接且所述第一、第二、第三预处理装置通过管道分别连接至综合集水调节池；自所述综合集水调节池通过管道按顺序依次连接综合水fenton氧化池、第三沉淀池、二级破氰池、第四沉淀池、生化子系统、深度氧化池及第五沉淀池。

2.如权利要求1所述的电镀废水深度处理系统，其特征在于，所述第一预处理装置包括：含氰废水调节池，所述含氰废水调节池连接有一第一真空泵和第二真空泵，所述第一真空泵和第二真空泵管道汇合集中连接至第一破氰池，所述第一破氰池依次连接第二破氰池和过流池，所述过流池最终管道连接至所述综合集水调节池。

3.如权利要求2所述的电镀废水深度处理系统，其特征在于，所述第二预处理装置包括：含铬废水调节池，所述含铬废水调节池连接有第三真空泵和第四真空泵，所述第三真空泵和第四真空泵管道汇合集中连接至Cr⁶⁺还原池，所述Cr⁶⁺还原池依次连接第一快混池、第一慢混池及第一沉淀池；所述第一沉淀池最终管道连接至所述综合集水调节池。

4.如权利要求3所述的电镀废水深度处理系统，其特征在于，所述第三预处理装置包括：含镍废水PH调节池，所述含镍废水PH调节池依次连接第二快混池、第二慢混池、第二沉淀池、含镍废水中间池，所述含镍废水中间池连接有第五真空泵和第六真空泵，所述第五真空泵和第六真空泵管道汇合集中连接至所述综合集水调节池。

5.如权利要求4所述的电镀废水深度处理系统，其特征在于，所述综合集水调节池通过管道还连接有一第七真空泵和一第八真空泵，所述第七真空泵和第八真空泵通过汇合集中管道连接至综合水fenton氧化池。

6.如权利要求4或5所述的电镀废水深度处理系统，其特征在于，所述综合水fenton氧化池包括：第一还原池，所述第一还原池依次连接第三快混池、第三慢混池以及所述第三沉淀池；所述第三沉淀池通过管道连接至所述二级破氰池。

7.如权利要求6所述的电镀废水深度处理系统，其特征在于，所述二级破氰池包括：第一调节池，所述第一调节池依次连接重金属反应池、第四慢混池以及所述第四沉淀池；所述第四沉淀池还连接有一回调池，所述回调池通过管道连接至所述生化子系统。

8.如权利要求7所述的电镀废水深度处理系统，其特征在于，所述生化子系统包括：厌氧池，所述厌氧池依次连接一级好氧池、二级好氧池、第二PH调节池，所述第二PH调节池最终通过管道连接至所述深度氧化池。

9.如权利要求8所述的电镀废水深度处理系统，其特征在于，所述综合水fenton氧化池、还原池、一级好氧池、二级好氧池及深度氧化池内部均设有连接气源的管道，用于接收气源进行氧化。

10.如权利要求9所述的电镀废水深度处理系统，其特征在于，所述第一破氰池、第二破氰池、Cr6+还原池、第一快混池、第一慢混池、含镍废水PH调节池、第二快混池、第二慢混池、第三快混池、第三慢混池、第一调节池、重金属反应池、第四慢混池、回调池、第二PH调节池及第三PH调节池内均设置有机械搅拌设备，用于均匀搅拌。