[实用新型]一种微米级石英薄膜制备装置

说明书

本实用新型公开了微米级石英薄膜制备装置，包括压力装置、石英管、顶端加热装置、运动控制装置、光耦合装置、光源装置及光谱采集装置，压力装置对石英管第一端加压，顶端加热装置向石英管第二端加热，形成包含球形薄膜结构的石英管，运动控制装置控制包含球形薄膜结构石英管侧端与光耦合装置第一端对齐，形成法布里‑珀罗干涉仪，光源装置发射的光源导入法布里‑珀罗干涉仪内形成光谱，并传送至光谱采集装置，光谱采集装置对其分析，确定侧端薄膜厚度，并将厚度满足要求的侧端薄膜确定为微米级石英薄膜，利用上述装置制备的微米级石英薄膜均匀平整，因不需研磨，操作简单，不存在易燃、易爆或有毒气体，不需采取防止环境污染措施，降低成本。

技术领域

本实用新型属于光纤传感技术领域，尤其涉及一种微米级石英薄膜制备装置。

背景技术

石英薄膜多用于光纤器件，现有的石英薄膜的制备方法是利用端面研磨或气相沉积的方法制备超薄的石英薄膜，端面研磨方法需要使用研磨机对制备材料进行研磨，一旦研磨的某一部位不符合要求，就需要重新研磨，操作繁琐；气相沉积方法需要进行化学反应，化学反应得到的石英薄膜可能存在不平整的现象，且化学反应后的余气易燃、易爆或有毒，因此还需要采取防止环境污染的措施，操作复杂且成本较高。

因此，现有的石英薄膜的制备方法存在着一旦研磨的某一部位不符合要求，就需要重新研磨，操作繁琐，化学反应得到的石英薄膜可能存在不平整的现象，且化学反应后的余气易燃、易爆或有毒，需要采取防止环境污染的措施，操作复杂且成本较高的技术问题。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提出一种微米级石英薄膜制备装置，旨在解决现有的石英薄膜的制备方法存在的一旦研磨的某一部位不符合要求，就需要重新研磨，操作繁琐，化学反应得到的石英薄膜可能存在不平整的现象，且化学反应后的余气易燃、易爆或有毒，需要采取防止环境污染的措施，操作复杂且成本较高的技术问题。

为实现上述目的，本实用新型提供一种微米级石英薄膜制备装置，所述制备装置包括：压力装置、石英管、顶端加热装置、运动控制装置、光耦合装置、光源装置及光谱采集装置；

所述压力装置与所述石英管的第一端相连接，所述石英管的第二端置于所述顶端加热装置内，所述顶端加热装置用于向所述石英管的第二端进行加热处理，使所述石英管的第二端受热熔融封闭，所述压力装置向第二端受热熔融封闭的石英管的第一端进行加压处理，同时所述顶端加热装置向石英管的受热熔融封闭的一端进行加热处理，形成包含球形薄膜结构的石英管；

所述运动控制装置的第一端与包含球形薄膜结构的石英管的侧端夹持连接，所述运动控制装置的第二端与所述光耦合装置的第一端夹持连接，所述运动控制装置用于控制包含球形薄膜结构的石英管的侧端与所述光耦合装置的第一端水平对齐，以形成法布里-珀罗干涉仪，其中，所述侧端为球形薄膜结构的顶端，所述法布里-珀罗干涉仪包括所述侧端、所述光耦合装置的第一端、及之间的立体空间；

所述光耦合装置的第二端与所述光源装置相连接，所述光耦合装置的第三端与所述光谱采集装置相连接，所述光源装置向所述光耦合装置发射光源，所述光源经过所述光耦合装置的第二端导入所述法布里-珀罗干涉仪内，在被所述侧端的薄膜反射后，形成光谱，所述光谱返回所述光耦合装置内，并经过所述光耦合装置的第三端传送至所述光谱采集装置，所述光谱采集装置对所述光谱进行分析处理，确定所述侧端的薄膜的厚度，将满足预设厚度条件的侧端的薄膜确定为所述微米级石英薄膜。

进一步的，所述压力装置包括双通道微量注射泵及注射器，所述双通道微量注射泵置于所述注射器内，所述双通道微量注射泵用于对所述注射器施加压力。

进一步的，使用紫外固化胶将所述石英管的第一端与所述注射器的注射口密封连接。

进一步的，所述石英管的内径为10um～800um，所述石英管的外径为100um～1000um。