[发明专利]一种类钻碳振动膜的制作方法及一种扬声器

说明书

本发明涉及一种类钻碳膜的制作方法，包括步骤：将一基材放置于空气中，所述基材为高分子材料；类钻碳复合膜沉积的步骤包括：在低于90℃的温度条件下，从大气压电浆化学气相沉积装置的一端通入含碳气体，并提供10千伏以下且5千伏以上的电压解离所述含碳气体，从所述大气压电浆化学气相沉积装置的另一端通入主气体，解离后的所述含碳气体被所述主气体带出所述大气压电浆化学气相沉积装置并沉积在所述基材的表面形成类钻碳复合膜；类钻碳振动膜成型的步骤包括：从所述类钻碳复合膜中裁切所需直径的类钻碳振动膜，并通过压制工艺形成所需形状的类钻碳振动膜；或通过压制工艺在类钻碳复合膜上压制形成所需形状和直径的类钻碳振动膜，并裁切所述类钻碳振动膜。本发明的类钻碳振动膜的制作方法，相比于传统的电浆辅助化学气相沉积和物理气相沉积的制作方法，只需在大气压环境、低温环境下就可实现类钻碳膜的沉积，无需设置真空腔体和真空装置，简化了制程。并且在低温环境下，能够避免高温导致的穿膜或热变形引起的膜皱掉，形成的类钻碳振动膜更为平坦。

技术领域

本发明涉及，特别是涉及一种类钻碳振动膜的制作方法及一种扬声器。

背景技术

类钻碳(Diamond Like Carbon，简称DLC)技术发展于1970年代初期，本质是一种含氢的非晶质碳膜，由于具有和天然钻石相近的性质，如高硬度、耐腐蚀性佳、表面平滑、摩擦系数小、抗磨耗性佳、生物相容性佳等，因此被用于喇叭振动膜上以延伸高频。但是，由于其分子结构中含有被扭曲的sp³键，具有较高的内应力，附着性往往不佳，容易产生破裂、剥落等问题。

现有的类钻碳膜制作方法多采用电浆辅助化学气相沉积(Plasma EnhancedChemical Vapor Deposition,PECVD)和物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)，传统的电浆辅助化学气相沉积需在高温、真空条件下进行，传统的物理气相沉积需在真空条件下进行，制程步骤和装置均复杂，且热应力残留导致类钻碳膜附着力差，往往还需要另外设置中介层或添加其它元素进行类钻碳膜的沉积，才能解决附着力差的问题，增加了制程步骤，且附着力也很难保证。

发明内容

基于此，有必要提供一种能够提高类钻碳膜附着力及制程步骤简单的类钻碳振动膜制作方法。

本发明提供一种类钻碳振动膜的制作方法，包括步骤：

将一基材放置于空气中，所述基材为高分子材料；

类钻碳复合膜沉积的步骤包括：在低于90℃的温度条件下，从大气压电浆化学气相沉积装置的一端通入含碳气体，并提供10千伏以下且5千伏以上的电压解离所述含碳气体，从所述大气压电浆化学气相沉积装置的另一端通入主气体，解离后的所述含碳气体被所述主气体带出所述大气压电浆化学气相沉积装置并沉积在所述基材的表面形成类钻碳复合膜；

类钻碳振动膜成型的步骤包括：从所述类钻碳复合膜中裁切所需直径的类钻碳振动膜，并通过压制工艺形成所需形状的类钻碳振动膜；或通过压制工艺在类钻碳复合膜上压制形成所需形状和直径的类钻碳振动膜，并裁切所述类钻碳振动膜。

在其中一个实施例中，所述类钻碳复合膜沉积的步骤之前还包括，将大气压电浆化学气相沉积装置的喷嘴与所述基材之间保持1至3厘米距离。

在其中一个实施例中，所述主气体为干洁大气、氮气和氧气中的一种。

在其中一个实施例中，所述类钻碳振动膜的厚度为20纳米至100纳米之间。

在其中一个实施例中，所述基材的厚度为9微米至50微米之间。

本发明的类钻碳振动膜的制作方法，相比于传统的电浆辅助化学气相沉积和物理气相沉积的制作方法，只需在大气压环境、低温环境下就可实现类钻碳膜的沉积，无需设置真空腔体和真空装置，简化了制程。并且在低温环境下，能够避免高温导致的穿膜或热变形引起的膜皱掉，形成的类钻碳振动膜更为平坦。