[发明专利]功率控制方法、测距模块及电子装置

权利要求书

1.一种功率控制方法，应用于测距模块，所述测距模块包括发光单元，其特征在于，所述功率控制方法包括：

于第一时间，所述发光单元以第一发射功率发射入射光；

接收对应于所述入射光的反射光；

根据所述反射光，判断所述测距模块与目标物的距离；

根据所述反射光，取得影像；

对所述影像进行人脸辨识，产生辨识结果；以及

根据所述辨识结果以及所述距离，调整所述发光单元的发射功率。

2.如权利要求1所述的功率控制方法，其特征在于，其中根据所述距离，调整所述发光单元的发射功率的步骤包括：

当所述距离大于一特定值时，调整发射功率大于所述第一发射功率。

3.如权利要求1所述的功率控制方法，其特征在于，根据所述距离，调整所述发光单元的发射功率的步骤包括：

当所述距离小于一特定值时，调整发射功率等于或小于所述第一发射功率。

4.如权利要求1所述的功率控制方法，其特征在于，根据所述反射光，判断所述测距模块与目标物的距离的步骤包括：

根据所述反射光，取得影像，其中所述影像包括多个像素；

取得对应于所述多个像素的多个像素深度值；以及

根据所述多个像素深度值，判断所述测距模块与目标物的距离。

5.如权利要求4所述的功率控制方法，其特征在于，根据所述多个像素深度值，判断所述测距模块与目标物的距离的步骤包括：

当所述多个像素中对应于多个第一像素的像素个数大于特定个数时，判断所述测距模块与目标物的距离为第一深度值；

其中，每一第一像素所对应的像素深度值小于所述第一深度值。

6.如权利要求4所述的功率控制方法，其特征在于，根据所述多个像素深度值，判断所述测距模块与目标物的距离的步骤包括：

判断所述测距模块与目标物的距离为所述多个像素深度值的统计量。

7.如权利要求1所述的功率控制方法，其特征在于，根据所述辨识结果以及所述距离，调整所述发光单元的发射功率包括：

当所述辨识结果显示所述影像中包括人脸影像且所述距离小于一特定值时，不调大所述发射功率。

8.如权利要求1所述的功率控制方法，其特征在于，所述第一时间小于一特定时间区间。

9.如权利要求1所述的功率控制方法，其特征在于，在于第一时间，所述发光单元以第一发射功率发射入射光之前，还包括：

接收背景光；以及

根据所述背景光，决定第一发射功率。

10.一种测距模块，其特征在于，包括：

发光单元，于第一时间以第一发射功率发射入射光；

感光单元，接收对应于所述入射光的反射光，根据所述反射光取得影像；以及

处理单元，用来执行以下步骤：

根据所述反射光，判断所述测距模块与目标物的距离；

对所述影像进行人脸辨识，产生辨识结果；以及

根据所述辨识结果以及所述距离，调整所述发光单元的发射功率。

11.如权利要求10所述的测距模块，其特征在于，当所述距离大于一特定值时，所述处理单元调整发射功率大于所述第一发射功率。

12.如权利要求10所述的测距模块，其特征在于，当所述距离小于一特定值时，所述处理单元调整发射功率等于或小于所述第一发射功率。

13.如权利要求10所述的测距模块，其特征在于，所述感光单元根据所述反射光，取得影像，其中所述影像包括多个像素；所述处理单元取得对应于所述多个像素的多个像素深度值；以及根据所述多个像素深度值，判断所述测距模块与目标物的距离。