[发明专利]光成像装置在审
申请号: | 201780001105.0 | 申请日: | 2017-06-19 |
公开(公告)号: | CN108027522A | 公开(公告)日: | 2018-05-11 |
发明(设计)人: | 绳田晃史;粟屋信义;田中觉 | 申请(专利权)人: | SCIVAX株式会社 |
主分类号: | G02B27/22 | 分类号: | G02B27/22;G02B5/124;G02B5/30 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 梁海莲;余明伟 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 成像 装置 | ||
1.一种光成像装置,其用于形成被投影物的实像,所述光成像装置的特征在于,具备:
偏振镜,其使P偏光透过而反射S偏光;
相位差元件,其将所述P偏光或所述S偏光变换成圆偏光或楕圆偏光;以及
回射板,其使通过所述相位差元件的光回射。
2.根据权利要求1所述的光成像装置,其特征在于:
所述回射板是利用金属的反射的部件。
3.根据权利要求1或2所述的光成像装置,其特征在于:
所述偏振镜具有第一面和第二面,使从第一面侧入射的光的P偏光透过而反射S偏光。
4.根据权利要求1或2所述的光成像装置,其特征在于:
所述偏振镜具有第一面和第二面,使从第一面侧入射的光的P偏光透过,反射从第二面侧入射的光的S偏光。
5.根据权利要求1或2所述的光成像装置,其特征在于:
所述偏振镜具有第一面和第二面,使从第一面侧入射的光的P偏光透过而反射S偏光,并且反射从第二面侧入射的光的S偏光,
所述相位差元件包括:将在所述偏振镜反射的S偏光变换成圆偏光或楕圆偏光的第一相位差元件、以及将透过所述偏振镜的P偏光变换成圆偏光或楕圆偏光的第二相位差元件,
所述回射板包括:使通过所述第一相位差元件的光回射的第一回射板、以及使通过所述第二相位差元件的光回射的第二回射板。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的光成像装置,其特征在于:
所述回射板的所述偏振镜侧为凹状的曲面。
7.根据权利要求1~5中任一项所述的光成像装置,其特征在于:
所述相位差元件和所述回射板的组合配置有角度不同的多组。
8.根据权利要求2所述的光成像装置,其特征在于:
所述偏振镜在所述第二面具有用于抑制光的反射的反射抑制单元。
9.根据权利要求1~8中任一项所述的光成像装置,其特征在于,具备:
将光投影到所述偏振镜的光投影单元。
10.根据权利要求9所述的光成像装置,其特征在于:
所述光投影单元投影的光是线偏光。
11.根据权利要求10所述的光成像装置,其特征在于,具备:
偏振镜角度调节单元,其使所述光投影单元与所述偏振镜相对地旋转,调节由所述偏振镜透过或反射的光的偏振方向。
12.根据权利要求1~11中任一项所述的光成像装置,其特征在于,具备:
相位差元件角度调节单元,其使所述偏振镜与所述相位差元件相对地旋转,调节从所述偏振镜入射所述相位差元件的光的偏振方向。
13.根据权利要求1~12中任一项所述的光成像装置,其特征在于:
所述相位差元件及所述回射板至少形成为大于等于所述偏振镜的大小。
14.一种光成像装置,其特征在于,具备:
权利要求1~8中任一项所述的光成像装置,其用于形成被投影物的实像;以及
权利要求1~8中任一项所述的光成像装置,其用于形成所述实像的实像。
15.根据权利要求14所述的光成像装置,其特征在于:
具备向被投影物照射光的光照射单元。
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