[发明专利]清洗部件、基板清洗装置及基板处理装置

权利要求书

1.一种清洗部件，用于清洗基板，所述清洗部件的特征在于，具备：

平坦的顶端面，在清洗所述基板时，该顶端面与所述基板接触，且该顶端面未由表皮层覆盖；以及

周缘部，该周缘部具有被覆部和露出部，该被覆部设于基部侧且由表皮层覆盖，该露出部设于顶端侧且未由表皮层覆盖。

2.根据权利要求1所述的清洗部件，其特征在于，

所述露出部的高度是1mm～5mm。

3.根据权利要求1或2所述的清洗部件，其特征在于，

设于所述顶端面的相反侧的基端面未由表皮层覆盖。

4.根据权利要求1或2所述的清洗部件，其特征在于，

所述清洗部件是笔型清洗部件。

5.根据权利要求1或2所述的清洗部件，其特征在于，

所述清洗部件是结节。

6.根据权利要求1或2所述的清洗部件，其特征在于，

所述清洗部件的顶端部的顶端侧的剖面积比该顶端部的基端侧的剖面积小。

7.根据权利要求1或2所述的清洗部件，其特征在于，

所述露出部的纵剖面的形状为四边形。

8.一种清洗部件，用于清洗基板，所述清洗部件的特征在于，

所述清洗部件是具备海绵部的笔型清洗部件，

所述海绵部具有：

基端面，该基端面未由表皮层覆盖；

平坦的顶端面，在清洗所述基板时，该顶端面与所述基板接触，且该顶端面未由表皮层覆盖；以及

周缘部，该周缘部具有被覆部和露出部，该被覆部设于所述海绵部的基部侧且由表皮层覆盖，该露出部设于所述海绵部的顶端侧且未由表皮层覆盖。

9.一种清洗部件，用于清洗基板，所述清洗部件的特征在于，具备：

平坦的顶端面，在清洗所述基板时，该顶端面与所述基板接触，且该顶端面露出海绵部；以及

周缘部，该周缘部具有被覆部和露出部，该被覆部设于基部侧且覆盖海绵部，该露出部设于顶端侧且露出海绵部。

10.一种基板清洗装置，其特征在于，具备：

基板保持部，该基板保持部对基板进行保持；以及

权利要求1或2所述的清洗部件，该清洗部件用于清洗所述基板。

11.一种基板处理装置，其特征在于，具备：

壳体；

对基板进行研磨的研磨单元；

对研磨后的所述基板进行清洗的如权利要求10所述的基板清洗装置；以及

使清洗后的所述基板干燥的干燥单元，

所述基板处理装置还具备：

对所述基板处理装置进行控制的控制部；以及

存储信息的存储部。