[发明专利]光路调制器及其制作方法、指纹识别装置和终端设备

权利要求书

1.一种光路调制器的制作方法，其特征在于，所述光路调制器应用于指纹识别装置，用于将从手指表面反射回来的反射光导引至设置在所述光路调制器下方的光学检测单元，所述光学检测单元用于对接收到的所述反射光进行检测，所述方法包括：

根据刻蚀图形，在刻蚀片上制作刻蚀阻挡层；

将所述刻蚀片固定在载片的倾斜槽的倾斜面上，所述倾斜面相对于所述载片的表面具有预定倾斜角度，其中，在将所述刻蚀片固定在所述倾斜面上之前，根据所述倾斜槽的大小对所述刻蚀片进行切割，以使所述刻蚀片能够放置在所述倾斜槽里；

利用所述刻蚀阻挡层对所述刻蚀片进行刻蚀，以在所述刻蚀片上制作出具有多个倾斜通孔的通孔阵列，其中每个倾斜通孔的倾斜角度与所述倾斜面的预定倾斜角度相同，所述倾斜角度为所述倾斜通孔的轴线方向与垂直于所述光路调制器表面的法线方向之间的夹角；

基于具有所述通孔阵列的所述刻蚀片，形成所述光路调制器。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述将所述刻蚀片固定在载片的倾斜槽，包括：

通过临时键合或者硅油粘合的方式，将所述刻蚀片固定在所述倾斜面。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述倾斜面的预定倾斜角度大于0°且小于40°。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述刻蚀片的材料为硅、碳化硅、氧化硅或者氮化硅。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述载片的材料为硅、碳化硅或者表面覆盖有钝化层的硅。

6.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述利用所述刻蚀阻挡层对所述刻蚀片进行刻蚀，包括：

利用所述刻蚀阻挡层对所述刻蚀片进行各向异性刻蚀。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述各向异性刻蚀包括干法等离子刻蚀。