[发明专利]光电转换装置在审
申请号: | 201780003629.3 | 申请日: | 2017-02-22 |
公开(公告)号: | CN108701701A | 公开(公告)日: | 2018-10-23 |
发明(设计)人: | 伊东一笃;金子诚二;神崎庸辅;齐藤贵翁;宫本忠芳 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;H01L29/786;H01L31/10;H04N5/369 |
代理公司: | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人: | 汪飞亚;习冬梅 |
地址: | 日本国大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光电转换装置 氧化物半导体层 光电二极管 光电转换层 平坦化膜 下部电极 钝化膜 接触孔 漏极电极 上部电极 泄漏电流 基板 截止 | ||
提供一种光电转换装置,在光电转换装置中减少光电二极管的截止泄漏电流。光电转换装置(100)具备:氧化物半导体层(5),其形成在基板(1)上;钝化膜(6)以及平坦化膜(7),其层叠于氧化物半导体层上;光电二极管(9),其由下部电极(91)、光电转换层(92)、上部电极(93)构成,经由钝化膜以及平坦化膜所形成的接触孔(21),下部电极连接于漏极电极(4),接触孔的正上方未设置有光电转换层。
技术领域
本发明是关于光电转换装置。
背景技术
以往,作为X线传感器或光传感器,利用光电转换装置。专利文献1揭示了光电转换装置的一例。
专利文献1:日本国公开专利公报“特开2010-67762号公报(2010年3月25日公开)”
发明内容
图7示出现有技术所涉及的光电转换装置的一例的剖视图。如图7所示,光电转换装置110中,在作为PIN二极管的光电二极管9的正下方贯穿设有接触孔,所述接触孔用于连接氧化物半导体层5(薄膜晶体管)的源极电极4、和光电二极管9的下部电极91。具有如上所述的结构的光电转换装置中,会有光电二极管9的截止泄漏电流变大的问题。
利用图8、9说明其原因。图8示出现有技术所涉及的光电二极管的一例的放大剖视图。图9示出现有技术所涉及的光电二极管的特性例的图表。如图8所示,在下部电极91的倾斜部中,光电转换层92的膜厚与下部电极91的平坦部相比较小,另外,在光电转换层92中、容易发生n+层921的切断,进一步,在i层922中发生裂纹(裂缝)。其结果,由针对光电二极管9的反向偏置电压而引起的电流变大,如图9所示,导致光电二极管9的截止泄漏电流变大。
本发明是鉴于上述的问题而完成的,其目的在于,在光电转换装置中减少光电二极管的截止泄漏电流。
为了解决上述的问题,本发明的一个方面所涉及的光电转换装置具备:薄膜晶体管,其形成在基板上;第一绝缘层,其层叠于所述薄膜晶体管上;光电二极管,其在上部电极和下部电极之间设置有光电转换层,经由所述第一绝缘层所形成的第一接触孔,所述光电二极管的下部电极连接于所述薄膜晶体管的漏极电极,所述第一接触孔的正上方未设置有所述光电转换层。
根据本发明的一个方面,起到在光电转换装置中能够减少光电二极管的截止泄漏电流的效果。
附图说明
图1示出本发明的第一实施方式所涉及的光电转换装置所利用的阵列基板构成平面图。
图2是图1的A-A’剖视图。
图3是图2的放大图。
图4是示出本发明的第一实施方式所涉及的光电二极管的特性例的图表。
图5示出本发明的第二实施方式所涉及的光电转换装置所利用的阵列基板构成的平面图。
图6示出本发明的第三实施方式所涉及的光电转换装置所利用的阵列基板的构成的平面图。
图7示出现有技术所涉及的光电转换装置的一例的剖视图。
图8是图7的放大图。
图9示出现有技术所涉及的光电二极管的特性例的图表。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的