[发明专利]膜掩模、其制备方法、使用膜掩模的图案形成方法和由膜掩模形成的图案

权利要求书

1.一种膜掩模，包括：

透明基板；

设置在所述透明基板上的暗化光屏蔽图案层；以及

在未设置暗化光屏蔽图案层的区域中设置的凹槽部，

其中，在所述透明基板与所述暗化光屏蔽图案层之间设置金属层，所述膜掩模包括该金属层中厚度彼此不同的两个以上的区域或所述暗化光屏蔽图案层中厚度彼此不同的两个以上的区域，或者，所述膜掩模包括在所述透明基板与所述暗化光屏蔽图案层之间设置有金属层的区域，以及所述透明基板与所述暗化光屏蔽图案层彼此直接接触的区域。

2.根据权利要求1所述的膜掩模，其中，所述凹槽部直接形成在所述透明基板上。

3.根据权利要求1所述的膜掩模，其中，所述凹槽部形成在所述透明基板上设置的单独树脂层中。

4.根据权利要求1所述的膜掩模，其中，所述暗化光屏蔽图案层在紫外区域范围内的反射率为30％以下。

5.根据权利要求1所述的膜掩模，其中，所述暗化光屏蔽图案层由黑色基体材料、炭黑类材料、混合有染料的树脂以及AlOxNy中的至少一种构成，

其中，0≤x≤1.5，0≤y≤1，x和y分别是O原子和N原子与一个Al原子的比值。

6.根据权利要求1所述的膜掩模，还包括：

设置在所述暗化光屏蔽图案层和所述凹槽部上的表面保护层和剥离力增强层中的至少一种。

7.根据权利要求1所述的膜掩模，还包括：

设置在所述暗化光屏蔽图案层与所述透明基板之间的附着层。

8.根据权利要求1所述的膜掩模，还包括设置在所述金属层与所述透明基板之间的附着层。

9.一种权利要求1至8中任意一项所述的膜掩模的制备方法，该制备方法包括：

在透明基板上形成凹槽部；以及

在所述透明基板上未设置凹槽部的区域上形成暗化光屏蔽图案层。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其中，所述在透明基板上形成凹槽部包括：

在所述透明基板上涂布用于形成凹槽部的树脂；以及

通过使用母模压印所述用于形成凹槽部的树脂并且对所述用于形成凹槽部的树脂进行曝光来形成凹槽部。

11.根据权利要求9所述的制备方法，其中，所述暗化光屏蔽图案层的形成包括：

使用用于形成暗化光屏蔽图案层的材料在所述透明基板的设置有所述凹槽部的表面上形成暗化光屏蔽层；

通过反向胶版印刷法在所述暗化光屏蔽层的未设置凹槽部的区域上形成抗蚀图案；

使用所述抗蚀图案去除所述凹槽部中的暗化光屏蔽层；以及

去除所述抗蚀图案。

12.一种使用权利要求1至8中任意一项所述的膜掩模的图案形成方法。

13.根据权利要求12所述的图案形成方法，其中，所述图案使用光敏树脂组合物形成，并且在凹槽部区域中满足如下关系：掩模的折射率固化后的光敏树脂组合物的折射率未固化的光敏树脂组合物的折射率。

14.一种使用权利要求1至8中任意一项所述的膜掩模形成的图案。