[发明专利]膜掩模、其制备方法、使用膜掩模的图案形成方法和由膜掩模形成的图案

权利要求书

1.一种膜掩模，包括：

透明基板；

设置在所述透明基板上的暗化光屏蔽图案层；

在所述透明基板的设置有所述暗化光屏蔽图案层的表面上设置的浮凸图案部；以及

设置在所述透明基板与所述暗化光屏蔽图案层之间的金属层，其中，所述金属层包含铝，并且所述暗化光屏蔽图案层包含氧化铝、氮化铝或氮氧化铝，并且

其中，所述膜掩模应用于卷对卷曝光工艺。

2.根据权利要求1所述的膜掩模，其中，所述浮凸图案部包括以预定间隔形成的两个以上的浮凸图案。

3.根据权利要求1所述的膜掩模，其中，所述浮凸图案部包括厚度相同并且以预定间隔形成的两个以上的浮凸图案。

4.根据权利要求1所述的膜掩模，其中，所述暗化光屏蔽图案层在紫外区域中的反射率为30％以下。

5.根据权利要求1所述的膜掩模，其中，所述膜掩模包括所述金属层中厚度彼此不同的两个以上的区域或所述暗化光屏蔽图案层中厚度彼此不同的两个以上的区域，或者，所述膜掩模包括在所述透明基板与所述暗化光屏蔽图案层之间设置有所述金属层的区域，以及所述透明基板与所述暗化光屏蔽图案层彼此直接接触的区域。

6.根据权利要求1所述的膜掩模，还包括：

设置在所述暗化光屏蔽图案层上的表面保护层。

7.根据权利要求1所述的膜掩模，还包括：

设置在所述暗化光屏蔽图案层和所述浮凸图案部上的剥离力增强层。

8.根据权利要求1所述的膜掩模，还包括设置在所述金属层与所述透明基板之间的附着层。

9.一种权利要求1至8中任意一项所述的膜掩模的制备方法，所述制备方法包括：

在透明基板上形成金属层和暗化光屏蔽图案层，以使所述金属层设置在所述透明基板与所述暗化光屏蔽图案层之间；以及

在所述透明基板的设置有所述暗化光屏蔽图案层的表面上形成浮凸图案部，

其中，所述金属层包含铝，并且所述暗化光屏蔽图案层包含氧化铝、氮化铝或氮氧化铝。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其中，所述暗化光屏蔽图案层的形成通过使用用于形成暗化光屏蔽图案层的材料在透明基板上形成暗化光屏蔽层，然后进行光刻胶涂布、紫外曝光、显影、蚀刻和剥离工艺来进行。

11.根据权利要求9所述的制备方法，其中，所述浮凸图案部的形成通过涂布粘合树脂并进行紫外曝光，然后涂布用于形成浮凸图案部的树脂组合物并进行紫外曝光的工艺来进行。

12.一种使用权利要求1至8中任意一项所述的膜掩模的图案形成方法。

13.根据权利要求12所述的图案形成方法，包括：

在包括两个基板、设置在所述两个基板之间的光敏树脂组合物、以及密封所述两个基板以使所述光敏树脂组合物不泄漏到所述两个基板的外部的密封部的层压体的一个表面上施加压力，使得所述膜掩模的所述浮凸图案部与所述层压体接触；

通过所述膜掩模对所述层压体进行曝光；以及

使所述两个基板中未固化的树脂组合物显影。

14.一种使用权利要求1至8中任意一项所述的膜掩模形成的图案。

15.一种图案结构，包括：基板；以及设置在所述基板上的使用光敏树脂组合物形成的图案，其中，所述图案包括预定间隔的图案损失部，并且

其中，所述图案通过使用权利要求1至8中任意一项所述的膜掩模而形成。

16.一种图案结构，包括：

两个基板；以及

通过使用光敏树脂组合物在所述两个基板之间形成的两端分别与所述两个基板接触的图案，

其中，所述图案的所述两端之间的长度均匀，并且

其中，所述图案通过使用权利要求1至8中任意一项所述的膜掩模而形成。