[发明专利]形成抗蚀剂图案的方法有效
| 申请号： | 201780004501.9 | 申请日： | 2017-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN108369378B | 公开（公告）日： | 2021-07-20 |
| 发明（设计）人： | 星野学 | 申请（专利权）人： | 日本瑞翁株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/20;G03F7/32;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 赵曦;刘继富 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 形成 抗蚀剂 图案 方法 | ||
1.一种形成抗蚀剂图案的方法，包含以下工序：
使用正性抗蚀剂组合物而形成抗蚀剂膜的工序；
对所述抗蚀剂膜进行曝光的工序；以及
对所述曝光了的抗蚀剂膜进行显影的工序，
使用表面张力为17mN/m以下的显影液而进行所述显影，所述显影液包含氟系溶剂，
所述正性抗蚀剂组合物包含聚合物和溶剂，所述聚合物具有下述通式(I)所示的单体单元A和下述通式(II)所示的单体单元B，所述单体单元A和所述单体单元B的至少一者具有一个以上氟原子，
式(I)中，R1为氯原子、氟原子或被氟原子取代的烷基，R2为非取代的烷基或被氟原子取代的烷基，R3和R4为氢原子、氟原子、非取代的烷基或被氟原子取代的烷基，可以彼此相同也可以不同，
式(II)中，R5、R6、R8及R9为氢原子、氟原子、非取代的烷基或被氟原子取代的烷基，可以彼此相同也可以不同，R7为氢原子、非取代的烷基或被氟原子取代的烷基，p和q为0以上且5以下的整数，p+q＝5，
所述聚合物的重均分子量为22000以上且110000以下。
2.根据权利要求1所述的形成抗蚀剂图案的方法，其中，
所述显影液为CF3CFHCFHCF2CF3。
3.根据权利要求1或2所述的形成抗蚀剂图案的方法，其中，
所述R1为氯原子。
4.根据权利要求3所述的形成抗蚀剂图案的方法，其中，
所述R2为被氟原子取代的烷基，
所述R3和R4为氢原子或非取代的烷基。
5.根据权利要求1或2所述的形成抗蚀剂图案的方法，其中，
所述R5～R9为氢原子或非取代的烷基，所述单体单元A具有一个以上氟原子。
6.根据权利要求1或2所述的形成抗蚀剂图案的方法，其中，
显影时间为3分钟以上且5分钟以下。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本瑞翁株式会社，未经日本瑞翁株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780004501.9/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
